Simulation of energetic electron trajectories in a multidipole magnetic field configuration of an ion source (1997)
- Authors:
- Autor USP: MACIEL, HOMERO SANTIAGO - EP
- Unidade: EP
- Assunto: PROTEÇÃO DE SISTEMAS ELÉTRICOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher: Sociedade Brasileira de Eletromagnetismo
- Publisher place: Belo Horizonte
- Date published: 1997
- Source:
- Título do periódico: COMPUMAG/RIO : proceedings
- Conference titles: Conference on the Computation of Electromagnetic Fields
-
ABNT
SANDONATO, Gilberto Marrega et al. Simulation of energetic electron trajectories in a multidipole magnetic field configuration of an ion source. 1997, Anais.. Belo Horizonte: Sociedade Brasileira de Eletromagnetismo, 1997. . Acesso em: 21 maio 2024. -
APA
Sandonato, G. M., Lima, P. E., Maciel, H. S., & Otani, C. (1997). Simulation of energetic electron trajectories in a multidipole magnetic field configuration of an ion source. In COMPUMAG/RIO : proceedings. Belo Horizonte: Sociedade Brasileira de Eletromagnetismo. -
NLM
Sandonato GM, Lima PE, Maciel HS, Otani C. Simulation of energetic electron trajectories in a multidipole magnetic field configuration of an ion source. COMPUMAG/RIO : proceedings. 1997 ;[citado 2024 maio 21 ] -
Vancouver
Sandonato GM, Lima PE, Maciel HS, Otani C. Simulation of energetic electron trajectories in a multidipole magnetic field configuration of an ion source. COMPUMAG/RIO : proceedings. 1997 ;[citado 2024 maio 21 ] - Estudo da influencia da potencia de rf aplicada ao catodo em filmes finos de titanio e cobalto depositados por sputtering
- Plasmas frios: aspectos de aplicacoes tecnologicas
- Efeito do confinamento magnetico multidipolo em plasma gerado por descarga d c
- Deposicao de carbono pirolitico, via processo de deposicao de vapor quimico assistido a plasma de metano , sobre substratos de carbono vitreo
- Filmes finos de materiais organicos por polimerizacao a plasma via descarga de microondas
- Estudo do comportamento da corrosao de silicio com adicao de s'F IND.6' e 'O IND.2' ao plasma c'BR''F IND. 3'
- Estudo por microscopia eletronica de varredura do perfil de corrosao de silicio obtido com plasma de cbrf3
- Corrosao anisotropica de silicio com plasma de cbrf3 para obtencao de trincheiras
- Levantamento de curva de paschen em plasmas formados por fontes dc utilizando-sediferentes configuracoes de eletrodos
- Propagacao nao estacionaria de ondas ion-acusticas nao lineares num plasma com ions negativos
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas