O efeito da temperatura do substrato em filmes de KCl:'Tl POT.+' (2000)
- Authors:
- Autor USP: LI, MAXIMO SIU - IFSC
- Unidade: IFSC
- Assunto: MATÉRIA CONDENSADA
- Language: Português
- Imprenta:
- Conference titles: Seminario Latinoamericano de Análises por Técnicas de Raios X
-
ABNT
RUBO, Elisabete Aparecida Andrello e SIU LI, Máximo. O efeito da temperatura do substrato em filmes de KCl:'Tl POT.+'. 2000, Anais.. São Pedro: Instituto de Física de São Carlos, Universidade de São Paulo, 2000. . Acesso em: 27 maio 2024. -
APA
Rubo, E. A. A., & Siu Li, M. (2000). O efeito da temperatura do substrato em filmes de KCl:'Tl POT.+'. In . São Pedro: Instituto de Física de São Carlos, Universidade de São Paulo. -
NLM
Rubo EAA, Siu Li M. O efeito da temperatura do substrato em filmes de KCl:'Tl POT.+'. 2000 ;[citado 2024 maio 27 ] -
Vancouver
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