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Condicionamento do esmalte com Er:YAG laser e ácido fosfórico: resistência à tração e microscopia eletrônica de varredura (2000)

  • Authors:
  • Autor USP: BISPO, LUCIANO BONATELLI - FO
  • Unidade: FO
  • Sigla do Departamento: ODD
  • Subjects: DENTÍSTICA; RESINAS COMPOSTAS
  • Language: Português
  • Abstract: Com o advento do condicionamento ácido do esmalte dental, pode-se compilar uma série de avanços na odontologia restauradora adesiva nesta última metade de século. Acredita-se que a odontologia conseguiu apenas três grandes avanços nos últimos cinqüenta anos: a fluoretação, a alta velocidade e o condicionamento ácido do esmalte. O desenvolvimento da tecnologia laser tornou seu emprego viável nos tecidos duros dentais, principalmente no esmalte, que pode ser preparado mecanicamente para, posteriormente, receber tratamento químico, que consiste na aplicação de ácidos em diferentes concentrações e tempo de aplicação. O propósito deste trabalho foi avaliar a resistência à tração de uma resina composta, aderida ao esmalte, que recebeu irradiação laser, laser mais ácido fosfórico a 35 por cento e apenas ácido fosfórico. Após utilização do sistema adesivo escolhido, cones de resina foram confeccionados na face condicionada e todos os espécimes foram termocicladosantes da realização dos testes. O esmalte condicionado foi observado em microscopia eletrônica de varredura, com diversos parâmetros, testando-se o modo focado e desfocado com várias densidades de energia. A associação laser ´mais´ ácidofosfórico mostrou valores de resistência à tração superiores à aplicação exclusiva do laser na maioria dos parâmetros utilizados
  • Imprenta:
  • Data da defesa: 27.03.2000

  • How to cite
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    • ABNT

      BISPO, Luciano Bonatelli. Condicionamento do esmalte com Er:YAG laser e ácido fosfórico: resistência à tração e microscopia eletrônica de varredura. 2000. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2000. . Acesso em: 15 maio 2024.
    • APA

      Bispo, L. B. (2000). Condicionamento do esmalte com Er:YAG laser e ácido fosfórico: resistência à tração e microscopia eletrônica de varredura (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
    • NLM

      Bispo LB. Condicionamento do esmalte com Er:YAG laser e ácido fosfórico: resistência à tração e microscopia eletrônica de varredura. 2000 ;[citado 2024 maio 15 ]
    • Vancouver

      Bispo LB. Condicionamento do esmalte com Er:YAG laser e ácido fosfórico: resistência à tração e microscopia eletrônica de varredura. 2000 ;[citado 2024 maio 15 ]


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