Adsorption of Si and Ge in monoatomic Si(100) steps (2003)
- Authors:
- USP affiliated authors: SILVA, ANTONIO JOSE ROQUE DA - IF ; FAZZIO, ADALBERTO - IF
- Unidade: IF
- Subjects: SEMICONDUTORES; MICROSCOPIA ELETRÔNICA DE VARREDURA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Book of Abstracts
- Volume/Número/Paginação/Ano: Fortaleza : DF/UFC, 2003
- Conference titles: Brazilian Workshop on Semiconductor Physics
-
ABNT
DALPIAN, G. M. e SILVA, Antonio Jose Roque da e FAZZIO, Adalberto. Adsorption of Si and Ge in monoatomic Si(100) steps. 2003, Anais.. Fortaleza: DF/UFC, 2003. . Acesso em: 31 maio 2024. -
APA
Dalpian, G. M., Silva, A. J. R. da, & Fazzio, A. (2003). Adsorption of Si and Ge in monoatomic Si(100) steps. In Book of Abstracts. Fortaleza: DF/UFC. -
NLM
Dalpian GM, Silva AJR da, Fazzio A. Adsorption of Si and Ge in monoatomic Si(100) steps. Book of Abstracts. 2003 ;[citado 2024 maio 31 ] -
Vancouver
Dalpian GM, Silva AJR da, Fazzio A. Adsorption of Si and Ge in monoatomic Si(100) steps. Book of Abstracts. 2003 ;[citado 2024 maio 31 ] - Dinâmica molecular de primeiros princípios da transição de fase zincblend -'beta'-Sn na liga ordenada 'Si IND.0.5' 'Ge IND.0.5'
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