Caracterização de filme fino de aminossilano por MALDI-TOF e XPS

Caracterização de filme fino de aminossilano por MALDI-TOF e XPS (2004)

Autores:
Autor USP: RODRIGUES FILHO, UBIRAJARA PEREIRA - IQSC
Unidade: IQSC
Assunto: QUÍMICA
Idioma: Português
Imprenta:
- Editora: PUC Rio
- Local: Rio de Janeiro
- Data de publicação: 2004
Fonte:
- Título do periódico: Resumo
Nome do evento: Congresso Brasileiro de Aplicações de Vácuo na Indústria e na Ciência - CBRAVIC

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ABNT

SOUZA, Adriano Lopes de et al. Caracterização de filme fino de aminossilano por MALDI-TOF e XPS. 2004, Anais.. Rio de Janeiro: PUC Rio, 2004. . Acesso em: 12 jun. 2024.
APA

Souza, A. L. de, Rodrigues Filho, U. P., Nascente, P. A. de P., Eberlin, M. N., & Santos, L. S. (2004). Caracterização de filme fino de aminossilano por MALDI-TOF e XPS. In Resumo. Rio de Janeiro: PUC Rio.
NLM

Souza AL de, Rodrigues Filho UP, Nascente PA de P, Eberlin MN, Santos LS. Caracterização de filme fino de aminossilano por MALDI-TOF e XPS. Resumo. 2004 ;[citado 2024 jun. 12 ]
Vancouver

Souza AL de, Rodrigues Filho UP, Nascente PA de P, Eberlin MN, Santos LS. Caracterização de filme fino de aminossilano por MALDI-TOF e XPS. Resumo. 2004 ;[citado 2024 jun. 12 ]