Comportamento eletroquímico das interfases cobre 'H IND.2'S'O IND.4' na presença de triazóis, surfactantes e misturas composto triazólico-surfactante (2006)
- Authors:
- Autor USP: SILVA, DOUGLAS KAIS DA - IQ
- Unidade: IQ
- Sigla do Departamento: QFL
- Subjects: CORROSÃO (RESISTÊNCIA); ELETROQUÍMICA (ESTUDO)
- Language: Português
- Abstract: Foi estudado o comportamento eIetroquímico de interfases Cu`H IND.2`S`0 IND.4` 0,5 moI L-I na ausência e presença de compostos triazólicos benzotriazoI (BT AH) e tolitriazoI (TT AH) e de surfactantes - dodecilsuIfato de sódio (SDS aniôruco) e cloreto de dodeciIamônio (DAC catiônico) a 25 `GRAUS CENTÍGRADOS`, empregando eletrodo parado e de disco rotativo (EDR). Foram empregadas como técnicas medidas de potencial de circuito aberto, polarização potenciostática e potenciodinâmica, cronoamperometria, espectroscopia de impedância eletroquímica e microscopia óptica. As características inibidoras do filme formado dependem da natureza dos aditivos e das condições hidrodinâmicas. As interfases contendo BTAH, TTAH, BTAH `MAIS` TTAH, BTAH `MAIS` SDS e TTAH `MAIS` SDS apresentaram uma faixa ampla de potencial em que o cobre se mostrou passivado, chegando a 200 mV para a mistura BTAH `MAIS` SDS empregando EDR. Densidades de corrente de passivação tão baixas quanto 2f.lA cm-2 foram observadas com EDR na presença de BTAH `MAIS` TTAH. As misturas composto triazólico - surfactante mostraram filmes menos resistentes. Os surfactantes isolados não produzem faixa passiva e antecipam o potencial de oxidação do cobre com eletrodo parado. As misturas triazol - DAC só produzem faixa passiva com EDR. Todos os aditivos se mostraram inibi dores para a reação `H POT.POSITIVO`/`H IND.2`, destacando-se, com eletrodo parado, BT AH, TTAH e BTAH `MAIS` TTAH
- Imprenta:
- Data da defesa: 18.08.2006
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ABNT
SILVA, Douglas Kais da. Comportamento eletroquímico das interfases cobre 'H IND.2'S'O IND.4' na presença de triazóis, surfactantes e misturas composto triazólico-surfactante. 2006. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2006. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/46/46132/tde-24042007-164032/. Acesso em: 20 maio 2024. -
APA
Silva, D. K. da. (2006). Comportamento eletroquímico das interfases cobre 'H IND.2'S'O IND.4' na presença de triazóis, surfactantes e misturas composto triazólico-surfactante (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/46/46132/tde-24042007-164032/ -
NLM
Silva DK da. Comportamento eletroquímico das interfases cobre 'H IND.2'S'O IND.4' na presença de triazóis, surfactantes e misturas composto triazólico-surfactante [Internet]. 2006 ;[citado 2024 maio 20 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/46/46132/tde-24042007-164032/ -
Vancouver
Silva DK da. Comportamento eletroquímico das interfases cobre 'H IND.2'S'O IND.4' na presença de triazóis, surfactantes e misturas composto triazólico-surfactante [Internet]. 2006 ;[citado 2024 maio 20 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/46/46132/tde-24042007-164032/
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