Avaliação da resistência adesiva em restaurações de resina composta variando-se as fontes de luz fotoativadoras (2007)
- Authors:
- Autor USP: PEREIRA, JOSE CARLOS - FOB
- Unidade: FOB
- Subjects: RESTAURAÇÃO DENTÁRIA; RESINAS COMPOSTAS; ADESIVOS DENTINÁRIOS
- Language: Português
- Abstract: Avaliou-se in vitro a influência de diferentes aparelhos fotoativadores na resistência adesiva à microtração cm restaurações de resina composta. Realizaram-se preparos classe I (6,0 x 4,5 mm; 2,5 mm prof.) em terceiros molares humanos, após planificar as cúspides. Os preparos foram restaurados com Adper Single Bond (AD) e Filtek Z250 (RC), aplicada em incremento único. Os aparelhos utilizados foram: XL3000 (QTH-540mW/cm2); Elipar FreeLight2 (LED-750mW/cm2), Arc Light IIM (PAC-2.130rW/cm2). Nove grupos experimentais foram obtidos com combinações de fontes de luz para fotoativar AD/RC: QFH/QTH; QTH/LED; QTH/PAC; LED/LED; LED/QTH; LED/PAC; PAC/PAC; PAC/QTH; PAC/LED. Os espécimes foram armazenados em água destilada por 24h a 37°C c, então, seccionados para obter "palitos" com área de 0,91mn2. Os espécimes foram testados em máquina de ensaios a 1mm/min. Os dados foram analisados estatisticamente (ANOVA dois critérios, α=0,05). As combinações PAC/QTH e QTH/QTI-I apresentaram valores significantemente maiores de resistência adesiva (52 c 40MPa) c LED/QTH os menores (15MPa) (p<0,05). Fotoativando-se AD com LED observaram-se os menores valores de resistência, independente da fonte que polimeriza RC (p<0,05). Combinações com mesma fonte de Luz (QTH/QTH, LED/LED e PAC/PAC) apresentaram valores de resistência estatisticamente equivalentes. Concluiu-se que diferentes combinações de fonte de luz influenciam os valores de resistência adesiva. Os resultados sãomais influenciados pelo aparelho que fotoativa o AD do que o aparelho que polimeriza a RC
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Anais do VII Encontro Científico de Pós-Graduação HRAC-USP
- Conference titles: Encontro Científico de Pós-Graduação HRAC-USP
-
ABNT
TRENTINO, A. C. et al. Avaliação da resistência adesiva em restaurações de resina composta variando-se as fontes de luz fotoativadoras. 2007, Anais.. Bauru: HRAC-USP, 2007. . Acesso em: 07 maio 2024. -
APA
Trentino, A. C., Svizero, N. R., D'Alpino, P. H. P., Wang, L., Pereira, J. C., & Rueggeberg, F. A. (2007). Avaliação da resistência adesiva em restaurações de resina composta variando-se as fontes de luz fotoativadoras. In Anais do VII Encontro Científico de Pós-Graduação HRAC-USP. Bauru: HRAC-USP. -
NLM
Trentino AC, Svizero NR, D'Alpino PHP, Wang L, Pereira JC, Rueggeberg FA. Avaliação da resistência adesiva em restaurações de resina composta variando-se as fontes de luz fotoativadoras. Anais do VII Encontro Científico de Pós-Graduação HRAC-USP. 2007 ;[citado 2024 maio 07 ] -
Vancouver
Trentino AC, Svizero NR, D'Alpino PHP, Wang L, Pereira JC, Rueggeberg FA. Avaliação da resistência adesiva em restaurações de resina composta variando-se as fontes de luz fotoativadoras. Anais do VII Encontro Científico de Pós-Graduação HRAC-USP. 2007 ;[citado 2024 maio 07 ] - Aspectos clínicos e técnicos na remineralização do esmalte
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