Silicon field-emission devices fabricated using the hydrogen implantation-porous silicon (HI-PS) micromachining technique (2008)
- Authors:
- USP affiliated authors: GALEAZZO, ELISABETE - EP ; PERES, HENRIQUE ESTANISLAU MALDONADO - EP ; FERNANDEZ, FRANCISCO JAVIER RAMIREZ - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1109/JMEMS.2008.927743
- Subjects: SEMICONDUTORES; SILÍCIO
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Journal of Microelectrochemical Systems
- ISSN: 1057-7157
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 17, n. 5, October 2008, p. 1263-1269
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Silicon field-emission devices fabricated using the hydrogen implantation-porous silicon (HI-PS) micromachining technique. Journal of Microelectrochemical Systems, v. 17, n. 5, p. 1263-1269, 2008Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1109/JMEMS.2008.927743. Acesso em: 01 maio 2024. -
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., Kopelvski, M. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2008). Silicon field-emission devices fabricated using the hydrogen implantation-porous silicon (HI-PS) micromachining technique. Journal of Microelectrochemical Systems, 17( 5), 1263-1269. doi:10.1109/JMEMS.2008.927743 -
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Kopelvski MM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon field-emission devices fabricated using the hydrogen implantation-porous silicon (HI-PS) micromachining technique [Internet]. Journal of Microelectrochemical Systems. 2008 ; 17( 5): 1263-1269.[citado 2024 maio 01 ] Available from: https://doi.org/10.1109/JMEMS.2008.927743 -
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Kopelvski MM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon field-emission devices fabricated using the hydrogen implantation-porous silicon (HI-PS) micromachining technique [Internet]. Journal of Microelectrochemical Systems. 2008 ; 17( 5): 1263-1269.[citado 2024 maio 01 ] Available from: https://doi.org/10.1109/JMEMS.2008.927743 - Porous silicon for gas sensor applications
- Porous silicon sacrifical layers applied on micromechanical structures fabrication
- Novel Si field emission devices fabrication method based on HI-PS technique for gas sensors development
- Dispositivos de teste da implantacao ionica de j2
- Gas sensitive porous silicon devices: responses to organic vapors
- Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication
- Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication
- Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process
- Silicon microtips arrays fabricated by HI-PS technique for application in field emission devices
- Electrochemical process for silicon tips fabrication
Informações sobre o DOI: 10.1109/JMEMS.2008.927743 (Fonte: oaDOI API)
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
