Caracterização elétrica de contatos de Al, Ni e Ti em filmes cristalizados de SiC obtidos por PECVD (2008)
- Authors:
- USP affiliated authors: PEREYRA, INES - EP ; CARREÑO, MARCELO NELSON PAEZ - EP
- Unidade: EP
- Subjects: FILMES FINOS; MICROELETRÔNICA
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: siPDusp
- Conference titles: Simpósio Internacional de Pós-Doutorado
-
ABNT
OLIVEIRA, Alessandro Ricardo de e PEREYRA, Inés e PÁEZ CARREÑO, Marcelo Nelson. Caracterização elétrica de contatos de Al, Ni e Ti em filmes cristalizados de SiC obtidos por PECVD. 2008, Anais.. São Paulo: USP, 2008. . Acesso em: 11 jun. 2024. -
APA
Oliveira, A. R. de, Pereyra, I., & Páez Carreño, M. N. (2008). Caracterização elétrica de contatos de Al, Ni e Ti em filmes cristalizados de SiC obtidos por PECVD. In siPDusp. São Paulo: USP. -
NLM
Oliveira AR de, Pereyra I, Páez Carreño MN. Caracterização elétrica de contatos de Al, Ni e Ti em filmes cristalizados de SiC obtidos por PECVD. siPDusp. 2008 ;[citado 2024 jun. 11 ] -
Vancouver
Oliveira AR de, Pereyra I, Páez Carreño MN. Caracterização elétrica de contatos de Al, Ni e Ti em filmes cristalizados de SiC obtidos por PECVD. siPDusp. 2008 ;[citado 2024 jun. 11 ] - 3D topography in self-sustained membranes of SiOxNy obtained by PECVD technique at low temperatures
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