Estudo cinético da lixiviação de metais de placas de circuito impresso obsoletos (2015)
- Authors:
- Autor USP: RAMUNNO, FRANCO ALVES LAVACCHINI - EP
- Unidade: EP
- Sigla do Departamento: PQI
- Subjects: CINÉTICA; LIXIVIAÇÃO; RESÍDUOS (RECICLAGEM)
- Language: Português
- Abstract: O processo tradicional de recuperação de metais de resíduos de equipamentos eletroeletrônicos (REEE) geralmente envolve processamento pirometalúrgico. Entretanto, o uso desta tecnologia para processar placas de circuito impresso (PCI) obsoletas pode levar à liberação de dioxinas e furanos, devido à decomposição térmica de retardantes de chama e resinas poliméricas presentes no substrato das placas. Portanto, este trabalho propõe uma rota hidrometalúrgica para recuperação de metais. O comportamento dos metais, com destaque para cobre, zinco e níquel, durante a lixiviação ácida, foi estudado em três temperaturas diferentes (35ºC, 65ºC e 75ºC), com e sem adição de um agente oxidante (peróxido de hidrogênio – H₂O₂). A cinética de dissolução ácida desses metais foi estudada baseada na análise química por ICP-OES (Espectrometria de emissão ótica por plasma acoplado indutivamente) e EDX (Espectroscopia de fluorescência de raios-X por energia dispersiva). O balanço de massa e a análise química indicaram que a etapa de lixiviação sem adição de oxidante é pouco eficaz na extração dos metais, sendo responsável pela dissolução de menos do que 6% do total extraído. A 64ºC e H₂SO₄ 1 mol/L, com adição de 5 mL de H₂O₂ (30%) a cada quinze minutos e densidade de polpa de 1 g / 10 mL, 98,1% do cobre, 99,9% do zinco e 99,0% do níquel foram extraídos após 4 horas. A cinética de dissolução desses metais é controlada pela etapa da reação química, seguindo, dependendo da temperatura, a equação 1 – (1 – XB)¹/³ = k₁.t ou a equação – ln (1 – XB) = k₄.t.
- Imprenta:
- Data da defesa: 13.04.2015
-
ABNT
RAMUNNO, Franco Alves Lavacchini. Estudo cinético da lixiviação de metais de placas de circuito impresso obsoletos. 2015. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2015. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3137/tde-07072016-152302/. Acesso em: 04 maio 2024. -
APA
Ramunno, F. A. L. (2015). Estudo cinético da lixiviação de metais de placas de circuito impresso obsoletos (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3137/tde-07072016-152302/ -
NLM
Ramunno FAL. Estudo cinético da lixiviação de metais de placas de circuito impresso obsoletos [Internet]. 2015 ;[citado 2024 maio 04 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3137/tde-07072016-152302/ -
Vancouver
Ramunno FAL. Estudo cinético da lixiviação de metais de placas de circuito impresso obsoletos [Internet]. 2015 ;[citado 2024 maio 04 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3137/tde-07072016-152302/
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
