Implantation of cobalt in SnO2 thin films studied by TDPAC (2017)
- Authors:
- Autor USP: MANSANO, RONALDO DOMINGUES - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1063/1.4983270
- Subjects: FILMES FINOS; SEMICONDUTORES; CRISTALOGRAFIA FÍSICA
- Language: Inglês
- Source:
- Título do periódico: AIP Advances
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 7, n. 5, May 2017
- Este periódico é de acesso aberto
- Este artigo é de acesso aberto
- URL de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: gold
- Licença: cc-by
-
ABNT
SCHELL, Juliana et al. Implantation of cobalt in SnO2 thin films studied by TDPAC. AIP Advances, v. 7, n. 5, 2017Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1063/1.4983270. Acesso em: 21 maio 2024. -
APA
Schell, J., Dang, T. T., Viaden, R., Mansano, R. D., Lupascu, D. C., & Carbonari, A. W. (2017). Implantation of cobalt in SnO2 thin films studied by TDPAC. AIP Advances, 7( 5). doi:10.1063/1.4983270 -
NLM
Schell J, Dang TT, Viaden R, Mansano RD, Lupascu DC, Carbonari AW. Implantation of cobalt in SnO2 thin films studied by TDPAC [Internet]. AIP Advances. 2017 ; 7( 5):[citado 2024 maio 21 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.4983270 -
Vancouver
Schell J, Dang TT, Viaden R, Mansano RD, Lupascu DC, Carbonari AW. Implantation of cobalt in SnO2 thin films studied by TDPAC [Internet]. AIP Advances. 2017 ; 7( 5):[citado 2024 maio 21 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.4983270 - Deposition and characterization of indium-tin oxide thin films deposited by RF sputtering
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Informações sobre o DOI: 10.1063/1.4983270 (Fonte: oaDOI API)
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