Interfacial band alignment and photoelectrochemical properties of all-sputtered BiVO4/FeNiOx and BiVO4/FeMnOx p-n heterojunctions (2023)
- Authors:
- USP affiliated authors: GONÇALVES, RENATO VITALINO - IFSC ; CORRÊA, ANDRESSA DOS SANTOS - IFSC ; RABELO, LUCAS GABRIEL - IFSC ; ROSA, WASHINGTON SANTA - IFSC
- Unidade: IFSC
- DOI: 10.1039/d2ya00247g
- Subjects: SEMICONDUTORES; ENERGIA SOLAR; ELETROQUÍMICA
- Agências de fomento:
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher place: Cambridge, UK
- Date published: 2023
- Source:
- Título do periódico: Energy Advances
- ISSN: 2753-1457
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 2, n. 1, p. 123-136 + supplementary information, Jan. 2023
- Este periódico é de acesso aberto
- Este artigo é de acesso aberto
- URL de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: gold
- Licença: cc-by-nc
-
ABNT
CORREA, Andressa dos Santos et al. Interfacial band alignment and photoelectrochemical properties of all-sputtered BiVO4/FeNiOx and BiVO4/FeMnOx p-n heterojunctions. Energy Advances, v. 2, n. Ja 2023, p. 123-136 + supplementary information, 2023Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1039/d2ya00247g. Acesso em: 28 abr. 2024. -
APA
Correa, A. dos S., Rabelo, L. G., Santa Rosa, W., Khan, N., Krishnamurthy, S., Khan, S., & Gonçalves, R. V. (2023). Interfacial band alignment and photoelectrochemical properties of all-sputtered BiVO4/FeNiOx and BiVO4/FeMnOx p-n heterojunctions. Energy Advances, 2( Ja 2023), 123-136 + supplementary information. doi:10.1039/d2ya00247g -
NLM
Correa A dos S, Rabelo LG, Santa Rosa W, Khan N, Krishnamurthy S, Khan S, Gonçalves RV. Interfacial band alignment and photoelectrochemical properties of all-sputtered BiVO4/FeNiOx and BiVO4/FeMnOx p-n heterojunctions [Internet]. Energy Advances. 2023 ; 2( Ja 2023): 123-136 + supplementary information.[citado 2024 abr. 28 ] Available from: https://doi.org/10.1039/d2ya00247g -
Vancouver
Correa A dos S, Rabelo LG, Santa Rosa W, Khan N, Krishnamurthy S, Khan S, Gonçalves RV. Interfacial band alignment and photoelectrochemical properties of all-sputtered BiVO4/FeNiOx and BiVO4/FeMnOx p-n heterojunctions [Internet]. Energy Advances. 2023 ; 2( Ja 2023): 123-136 + supplementary information.[citado 2024 abr. 28 ] Available from: https://doi.org/10.1039/d2ya00247g - Interfacial band alignment and photoelectrochemical properties of all- sputtered BiVO4/FeMOx (M = Co, Ni, Mn) p-n heterojunctions
- A bias-free tandem photoelectrochemical cell of BiVO4-CuO for solar-driven water splitting
- Development of sputtered BiVO4-CuO Tandem cells for bias-free solar water splitting
- Desenvolvimento da heteroestrutura CuWO4/BiVO4/FeCoOx com configuração de bandas otimizada para aplicações na fotossíntese artificial
- Elucidação do alinhamento interfacial de bandas e aplicação fotoeletroquímica da heterojunção CuWO4/BiVO4
- Development of Tandem BiVO4-LaFeO3 cells for solar hydrogen production through artificial photosynthesis without external field application
- Desenvolvimento de filmes de CuWO4 e estudo das propriedades eletrônicas para aplicação na fotossíntese artificial
- Desenvolvimento e otimização de fotoanodos de BiVO4 aplicados à fotossíntese artificial para produção de hidrogênio combustível
- Investigação das propriedades eletrônicas e estruturais de fotoanodos de vanadato de bismuto preparados por spin coating
- Ternary oxide CuWO4/BiVO4/FeCoOx Films for photoelectrochemical water oxidation: insights into the electronic structure and interfacial band alignment
Informações sobre o DOI: 10.1039/d2ya00247g (Fonte: oaDOI API)
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| Tipo | Nome | Link | |
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 | 3123591.pdf | Direct link |
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