Special issue in honor of Academician Erkang WANG’s 90th birthday and his 70th anniversary of scientific research [Editorial] (2023)
- Authors:
- Autor USP: TORRESI, ROBERTO MANUEL - IQ
- Unidade: IQ
- DOI: 10.1016/j.jelechem.2023.117698
- Assunto: PESQUISA CIENTÍFICA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Journal of Electroanalytical Chemistry
- ISSN: 1572-6657
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 945, p. 1 art.117698, 2023
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
XU, Guobao e XIA, Xing-Hua e TORRESI, Roberto Manuel. Special issue in honor of Academician Erkang WANG’s 90th birthday and his 70th anniversary of scientific research [Editorial]. Journal of Electroanalytical Chemistry. Lausanne: Instituto de Química, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.jelechem.2023.117698. Acesso em: 30 abr. 2024. , 2023 -
APA
Xu, G., Xia, X. -H., & Torresi, R. M. (2023). Special issue in honor of Academician Erkang WANG’s 90th birthday and his 70th anniversary of scientific research [Editorial]. Journal of Electroanalytical Chemistry. Lausanne: Instituto de Química, Universidade de São Paulo. doi:10.1016/j.jelechem.2023.117698 -
NLM
Xu G, Xia X-H, Torresi RM. Special issue in honor of Academician Erkang WANG’s 90th birthday and his 70th anniversary of scientific research [Editorial] [Internet]. Journal of Electroanalytical Chemistry. 2023 ; 945 1 art.117698.[citado 2024 abr. 30 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jelechem.2023.117698 -
Vancouver
Xu G, Xia X-H, Torresi RM. Special issue in honor of Academician Erkang WANG’s 90th birthday and his 70th anniversary of scientific research [Editorial] [Internet]. Journal of Electroanalytical Chemistry. 2023 ; 945 1 art.117698.[citado 2024 abr. 30 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jelechem.2023.117698 - Memorial
- Dinamica do transporte de carga e massa nos processos redox de filmes de polianilina
- Estudo de processos redox em filmes de polianilina
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Informações sobre o DOI: 10.1016/j.jelechem.2023.117698 (Fonte: oaDOI API)
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