Subjects: FILMES FINOS, DIFRAÇÃO POR RAIOS X
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ABNT
FARIA, I. C. et al. Microestrutura, morfologia e estequiometria: comportamento eletrocrômico de filmes finos de óxido de níquel. 1996, Anais.. São Carlos: Instituto de Física, Universidade de São Paulo, 1996. . Acesso em: 31 maio 2024.APA
Faria, I. C., Kleinke, M., Gorenstein, A., Fantini, M., Tabacniks, M., & Salvadori, M. C. (1996). Microestrutura, morfologia e estequiometria: comportamento eletrocrômico de filmes finos de óxido de níquel. In . São Carlos: Instituto de Física, Universidade de São Paulo.NLM
Faria IC, Kleinke M, Gorenstein A, Fantini M, Tabacniks M, Salvadori MC. Microestrutura, morfologia e estequiometria: comportamento eletrocrômico de filmes finos de óxido de níquel. 1996 ;[citado 2024 maio 31 ]Vancouver
Faria IC, Kleinke M, Gorenstein A, Fantini M, Tabacniks M, Salvadori MC. Microestrutura, morfologia e estequiometria: comportamento eletrocrômico de filmes finos de óxido de níquel. 1996 ;[citado 2024 maio 31 ]