Fotoestabilidade do ácido clorogênico frente à radiação UVA e à UVB (2010)
Source: Cosmetics & Toiletries. Conference titles: Congresso Brasileiro de Cosmetologia. Unidade: FCF
Subjects: COSMÉTICOS, FOTOQUÍMICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
RIVELLI, Diogo Pineda et al. Fotoestabilidade do ácido clorogênico frente à radiação UVA e à UVB. Cosmetics & Toiletries. São Paulo: Faculdade de Ciências Farmacêuticas, Universidade de São Paulo. . Acesso em: 09 jun. 2024. , 2010APA
Rivelli, D. P., Haroutiounian Filho, C. A., Almeida, R. L. de, Ropke, C. D., Sawada, C. H., & Barros, S. B. de M. (2010). Fotoestabilidade do ácido clorogênico frente à radiação UVA e à UVB. Cosmetics & Toiletries. São Paulo: Faculdade de Ciências Farmacêuticas, Universidade de São Paulo.NLM
Rivelli DP, Haroutiounian Filho CA, Almeida RL de, Ropke CD, Sawada CH, Barros SB de M. Fotoestabilidade do ácido clorogênico frente à radiação UVA e à UVB. Cosmetics & Toiletries. 2010 ; 22( 3): 127-128.[citado 2024 jun. 09 ]Vancouver
Rivelli DP, Haroutiounian Filho CA, Almeida RL de, Ropke CD, Sawada CH, Barros SB de M. Fotoestabilidade do ácido clorogênico frente à radiação UVA e à UVB. Cosmetics & Toiletries. 2010 ; 22( 3): 127-128.[citado 2024 jun. 09 ]