Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
ABNT
YOSHIOKA, R T e TATSCH, P J e SWART, Jacobus Willibrordus. Decapagem de fotorresiste por plasma de 02 e sf6 e a sua aplicacao no processo de fabricacao de air bridge. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 05 jun. 2024.APA
Yoshioka, R. T., Tatsch, P. J., & Swart, J. W. (1994). Decapagem de fotorresiste por plasma de 02 e sf6 e a sua aplicacao no processo de fabricacao de air bridge. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.NLM
Yoshioka RT, Tatsch PJ, Swart JW. Decapagem de fotorresiste por plasma de 02 e sf6 e a sua aplicacao no processo de fabricacao de air bridge. Anais. 1994 ;[citado 2024 jun. 05 ]Vancouver
Yoshioka RT, Tatsch PJ, Swart JW. Decapagem de fotorresiste por plasma de 02 e sf6 e a sua aplicacao no processo de fabricacao de air bridge. Anais. 1994 ;[citado 2024 jun. 05 ]