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Trabalho de evento-resumo
Caracterização de filmes de silício amorfo depositados por sputtering e dopados com fósforo para a fabricação de transistor de filme fino (2008)
Nunes, Carolina Carvalho Previdi; Mansano, Ronaldo Domingues ; Zambon, Luís da Silva ; Tabacniks, Manfredo Harri
Source: Resumo. Conference titles: Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada. Unidades: EP, IF
Subjects: FÍSICA DA MATÉRIA CONDENSADA, FILMES FINOS
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ABNT
NUNES, Carolina Carvalho Previdi et al. Caracterização de filmes de silício amorfo depositados por sputtering e dopados com fósforo para a fabricação de transistor de filme fino. 2008, Anais.. São Paulo: SBF, 2008. Disponível em: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxxi/sys/resumos/R0829-1.pdf. Acesso em: 23 maio 2024.
APA
Nunes, C. C. P., Mansano, R. D., Zambon, L. da S., & Tabacniks, M. H. (2008). Caracterização de filmes de silício amorfo depositados por sputtering e dopados com fósforo para a fabricação de transistor de filme fino. In Resumo. São Paulo: SBF. Recuperado de http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxxi/sys/resumos/R0829-1.pdf
NLM
Nunes CCP, Mansano RD, Zambon L da S, Tabacniks MH. Caracterização de filmes de silício amorfo depositados por sputtering e dopados com fósforo para a fabricação de transistor de filme fino [Internet]. Resumo. 2008 ;[citado 2024 maio 23 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxxi/sys/resumos/R0829-1.pdf
Vancouver
Nunes CCP, Mansano RD, Zambon L da S, Tabacniks MH. Caracterização de filmes de silício amorfo depositados por sputtering e dopados com fósforo para a fabricação de transistor de filme fino [Internet]. Resumo. 2008 ;[citado 2024 maio 23 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxxi/sys/resumos/R0829-1.pdf
Artigo de periodico
Sterilization by oxygen plasma (2004)
Moreira, Adir José; Mansano, Ronaldo Domingues ; Pinto, Terezinha de Jesus Andreoli ; Ruas, Ronaldo; Zambon, Luís da Silva ; Silva, Mônica Valero da; Verdonck, Patrick Bernard
Source: Applied Surface Science. Unidades: FCF, EP
Subjects: PLASMA, OXIGÊNIO, MICROBIOLOGIA
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ABNT
MOREIRA, Adir José et al. Sterilization by oxygen plasma. Applied Surface Science, v. 235, n. 1-2, p. 151-155, 2004Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2004.05.128. Acesso em: 23 maio 2024.
APA
Moreira, A. J., Mansano, R. D., Pinto, T. de J. A., Ruas, R., Zambon, L. da S., Silva, M. V. da, & Verdonck, P. B. (2004). Sterilization by oxygen plasma. Applied Surface Science, 235( 1-2), 151-155. doi:10.1016/j.apsusc.2004.05.128
NLM
Moreira AJ, Mansano RD, Pinto T de JA, Ruas R, Zambon L da S, Silva MV da, Verdonck PB. Sterilization by oxygen plasma [Internet]. Applied Surface Science. 2004 ; 235( 1-2): 151-155.[citado 2024 maio 23 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2004.05.128
Vancouver
Moreira AJ, Mansano RD, Pinto T de JA, Ruas R, Zambon L da S, Silva MV da, Verdonck PB. Sterilization by oxygen plasma [Internet]. Applied Surface Science. 2004 ; 235( 1-2): 151-155.[citado 2024 maio 23 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2004.05.128

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