Preparacao e caracterizacao de peliculas de nitreto de silicio obtidas pela tecnica pecvd: aplicacoes em celulas solares de silicio multicristalino (1994)
- Autores:
- Autor USP: SATO, EDUARDO MAKOTO - EP
- Unidade: EP
- Sigla do Departamento: PEE
- Assunto: ENGENHARIA ELÉTRICA
- Idioma: Português
- Resumo: Estudou-se a influencia que os principais parametros de deposicao exercem nas caracteristicas finais de peliculas de nitreto de silicio obtidas num reator tipo pecvd (plasma enhanced chemical vapor deposition). Os parametros considerados foram a temperatura do substrato durante a deposicao, a concentracao relativa dos gases reagentes (amonia e silana) no interior da camara do reator e a potencia de rf aplicada aos gases para gerar o plasma. Tal estudo teve duas finalidades. 1) a obtencao de uma pelicula com caracteristicas adequadas a funcao de camada anti-refletora em celulas solares de silicio multicristalino para aplicacao terrestre. 2) a passivacao de defeitos do dispositivo, o que deve ocorrer durante a deposicao da camada de nitreto de silicio devido a presenca de hidrogenio no plasma gerado pela decomposicao da silana ('SI''H IND.4') e da amonia ('N''H IND.3'). A analise das peliculas de nitreto foi feita atraves de medidas de elipsometria, de espectroscopia (infravermelho, visivel e parte do ultra-violeta), de espectrometria de retroespalhamento (rbs) e de difracao de raios-x. O reator utilizado e os parametros considerados permitiram um bom controle sobre as caracteristicas das peliculas depositadas. A camada anti-refletora obtida com as condicoes de plasma otimizadas mostrou-se bastante eficiente, reduzindo a reflexao a menos da metade.
- Imprenta:
- Data da defesa: 11.10.1994
-
ABNT
SATO, Eduardo Makoto. Preparacao e caracterizacao de peliculas de nitreto de silicio obtidas pela tecnica pecvd: aplicacoes em celulas solares de silicio multicristalino. 1994. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1994. . Acesso em: 18 abr. 2024. -
APA
Sato, E. M. (1994). Preparacao e caracterizacao de peliculas de nitreto de silicio obtidas pela tecnica pecvd: aplicacoes em celulas solares de silicio multicristalino (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. -
NLM
Sato EM. Preparacao e caracterizacao de peliculas de nitreto de silicio obtidas pela tecnica pecvd: aplicacoes em celulas solares de silicio multicristalino. 1994 ;[citado 2024 abr. 18 ] -
Vancouver
Sato EM. Preparacao e caracterizacao de peliculas de nitreto de silicio obtidas pela tecnica pecvd: aplicacoes em celulas solares de silicio multicristalino. 1994 ;[citado 2024 abr. 18 ]
Como citar
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
