Study of the thermal stability of the al / tiw / tisi2 / si structure (1991)
- Autores:
- Autores USP: SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP ; FURLAN, ROGERIO - EP
- Unidade: EP
- Assunto: SEMICONDUTORES
- Idioma: Inglês
- Fonte:
- Título do periódico: Journal of the Electrochemical Society
- Volume/Número/Paginação/Ano: v.138, n.8 , p.2377-81, aug. 1991
-
ABNT
FURLAN, Rogério e VAN DER SPIEGEL, J e SWART, Jacobus Willibrordus. Study of the thermal stability of the al / tiw / tisi2 / si structure. Journal of the Electrochemical Society, v. 138, n. 8 , p. 2377-81, 1991Tradução . . Acesso em: 19 abr. 2024. -
APA
Furlan, R., Van der Spiegel, J., & Swart, J. W. (1991). Study of the thermal stability of the al / tiw / tisi2 / si structure. Journal of the Electrochemical Society, 138( 8 ), 2377-81. -
NLM
Furlan R, Van der Spiegel J, Swart JW. Study of the thermal stability of the al / tiw / tisi2 / si structure. Journal of the Electrochemical Society. 1991 ;138( 8 ): 2377-81.[citado 2024 abr. 19 ] -
Vancouver
Furlan R, Van der Spiegel J, Swart JW. Study of the thermal stability of the al / tiw / tisi2 / si structure. Journal of the Electrochemical Society. 1991 ;138( 8 ): 2377-81.[citado 2024 abr. 19 ] - Verificação da redistribuição de arsenio no processo de formação de siliceto de titanio por rtp em vacuo
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