Construcao e caracterizacao inicial de um medidor de rugosidade quimica de superficies de silicio empregando espalhamento espectral de luz (1992)
- Autores:
- Autores USP: SANTOS FILHO, SEBASTIAO GOMES DOS - EP ; HASENACK, CLAUS MARTIN - EP
- Unidade: EP
- Assunto: SEMICONDUTORES
- Idioma: Português
- Imprenta:
- Editora: Sbmicro/Epusp
- Local: São Paulo
- Data de publicação: 1992
- Fonte:
- Título do periódico: Anais
- Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica
-
ABNT
SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos e HASENACK, Claus Martin. Construcao e caracterizacao inicial de um medidor de rugosidade quimica de superficies de silicio empregando espalhamento espectral de luz. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 19 abr. 2024. -
APA
Santos Filho, S. G. dos, & Hasenack, C. M. (1992). Construcao e caracterizacao inicial de um medidor de rugosidade quimica de superficies de silicio empregando espalhamento espectral de luz. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp. -
NLM
Santos Filho SG dos, Hasenack CM. Construcao e caracterizacao inicial de um medidor de rugosidade quimica de superficies de silicio empregando espalhamento espectral de luz. Anais. 1992 ;[citado 2024 abr. 19 ] -
Vancouver
Santos Filho SG dos, Hasenack CM. Construcao e caracterizacao inicial de um medidor de rugosidade quimica de superficies de silicio empregando espalhamento espectral de luz. Anais. 1992 ;[citado 2024 abr. 19 ] - Achievement of high quality thin gates oxides grown by rapid thermal oxidation of silicon
- Mechanisms of metal and sulfur contamination on silicon wafer surfaces during HF-last cleanings. (em CD-Rom)
- A Less critical cleaning procedure for silicon wafers using diluted hf dip and boiling in isopropil alcohol as final steps
- Silicon surface roughening induced by c 'BR''F IND.3' plasma during the reactive ion etching
- Deposition and renoval of surface contaminants from silicon wafers by means of a diluted hp dip followed or not by a isopropyl alcohol boil
- Plating mechanisms of cooper onto silicon surfaces diluted hydrofluoric solutions
- Influence of different rapid thermal oxidation recipes on the rms roughness of the 'SI'-'SI''O IND.2' interface
- Rapid thermal oxidation of silicon with different thermal annealing cycles in nitrogen: influence on surface microroughness and electrical characteristics
- Medida da rugosidade superficial de laminas de silicio empregando a tecnica de espalhamento elastico de luz laser hene
- Silicon surface roughening induced by c'BR''F IND.3' plasma during the reactive ion etching
Como citar
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
