Amorphous palladium-silicon alloys for the oxidation of formic acid and formaldehyde: A voltammetric investigation (1999)
- Authors:
- USP affiliated authors: MACHADO, SERGIO ANTONIO SPINOLA - IQSC ; AVACA, LUIS ALBERTO - IQSC
- Unidade: IQSC
- DOI: 10.1590/s0103-50531999000600010
- Subjects: FÍSICO-QUÍMICA; ELETROQUÍMICA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Journal of the Brazilian Chemical Society
- ISSN: 0103-5053
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 10, n. 6, p. 478-482, 1999
- Este periódico é de acesso aberto
- Este artigo é de acesso aberto
- URL de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: gold
- Licença: cc-by
-
ABNT
CORREIA, Adriana Nunes et al. Amorphous palladium-silicon alloys for the oxidation of formic acid and formaldehyde: A voltammetric investigation. Journal of the Brazilian Chemical Society, v. 10, n. 6, p. 478-482, 1999Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1590/s0103-50531999000600010. Acesso em: 11 maio 2024. -
APA
Correia, A. N., Mascaro, L. H., Machado, S. A. S., & Avaca, L. A. (1999). Amorphous palladium-silicon alloys for the oxidation of formic acid and formaldehyde: A voltammetric investigation. Journal of the Brazilian Chemical Society, 10( 6), 478-482. doi:10.1590/s0103-50531999000600010 -
NLM
Correia AN, Mascaro LH, Machado SAS, Avaca LA. Amorphous palladium-silicon alloys for the oxidation of formic acid and formaldehyde: A voltammetric investigation [Internet]. Journal of the Brazilian Chemical Society. 1999 ; 10( 6): 478-482.[citado 2024 maio 11 ] Available from: https://doi.org/10.1590/s0103-50531999000600010 -
Vancouver
Correia AN, Mascaro LH, Machado SAS, Avaca LA. Amorphous palladium-silicon alloys for the oxidation of formic acid and formaldehyde: A voltammetric investigation [Internet]. Journal of the Brazilian Chemical Society. 1999 ; 10( 6): 478-482.[citado 2024 maio 11 ] Available from: https://doi.org/10.1590/s0103-50531999000600010 - Influence of h-absorption on the cathodic response of high area nickel electrodes in alkaline solutions
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Informações sobre o DOI: 10.1590/s0103-50531999000600010 (Fonte: oaDOI API)
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