Propriedades químicas, morfológicas e estruturais de filmes finos amorfos hidrogenados de oxinitreto de silício (2000)
- Autores:
- Autores USP: TABACNIKS, MANFREDO HARRI - IF ; FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF
- Unidade: IF
- Assunto: CRISTALOGRAFIA
- Idioma: Português
- Imprenta:
- Fonte:
- Título do periódico: Resumos
- Nome do evento: Reunião da Sociedade Brasileira de Cristalografia
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ABNT
SCOPEL, Wanderla Luis et al. Propriedades químicas, morfológicas e estruturais de filmes finos amorfos hidrogenados de oxinitreto de silício. 2000, Anais.. Campinas: LNLS, 2000. . Acesso em: 18 abr. 2024. -
APA
Scopel, W. L., Cuzinatto, R. R., Tabacniks, M. H., Fantini, M. C. de A., Alayo Chávez, M. I., & Pereira, I. (2000). Propriedades químicas, morfológicas e estruturais de filmes finos amorfos hidrogenados de oxinitreto de silício. In Resumos. Campinas: LNLS. -
NLM
Scopel WL, Cuzinatto RR, Tabacniks MH, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereira I. Propriedades químicas, morfológicas e estruturais de filmes finos amorfos hidrogenados de oxinitreto de silício. Resumos. 2000 ;[citado 2024 abr. 18 ] -
Vancouver
Scopel WL, Cuzinatto RR, Tabacniks MH, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereira I. Propriedades químicas, morfológicas e estruturais de filmes finos amorfos hidrogenados de oxinitreto de silício. Resumos. 2000 ;[citado 2024 abr. 18 ] - Filmes eletrocromicos de 'NIO IND.X' depositados pou 'rf- sputtering
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