Structural and electronic properties of the amorphous 'HFO IND.2' (2003)
- Autores:
- Autores USP: SILVA, ANTONIO JOSE ROQUE DA - IF ; FAZZIO, ADALBERTO - IF
- Unidade: IF
- Assuntos: QUÍMICA TEÓRICA; ESTRUTURA ELETRÔNICA
- Idioma: Inglês
- Imprenta:
- Fonte:
- Título do periódico: Livro de Resumos
- Nome do evento: Simpósio Brasileiro de Química Teórica, XII
-
ABNT
SCOPEL, Wanderlã Luis e SILVA, Antonio Jose Roque da e FAZZIO, Adalberto. Structural and electronic properties of the amorphous 'HFO IND.2'. 2003, Anais.. Campinas: UNICAMP, 2003. . Acesso em: 16 abr. 2024. -
APA
Scopel, W. L., Silva, A. J. R. da, & Fazzio, A. (2003). Structural and electronic properties of the amorphous 'HFO IND.2'. In Livro de Resumos. Campinas: UNICAMP. -
NLM
Scopel WL, Silva AJR da, Fazzio A. Structural and electronic properties of the amorphous 'HFO IND.2'. Livro de Resumos. 2003 ;[citado 2024 abr. 16 ] -
Vancouver
Scopel WL, Silva AJR da, Fazzio A. Structural and electronic properties of the amorphous 'HFO IND.2'. Livro de Resumos. 2003 ;[citado 2024 abr. 16 ] - Vacancy-mediated diffusion in disordered alloys: Ge self-diffusion in 'Si IND.1-X' 'Ge IND.X'
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