Correlation between mechanical and electrical properties of silicon oxide deposited by PECVD-TEOS at low temperature (2004)
- Autores:
- Autor USP: MORIMOTO, NILTON ITIRO - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1016/s0257-8972(03)01212-x
- Assunto: FILMES FINOS
- Idioma: Inglês
- Imprenta:
- Fonte:
- Título do periódico: Surface & Coatings Technology,
- ISSN: 0257-8972
- Volume/Número/Paginação/Ano: v.180-181, p. 275-279, March 2004
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
GONÇALVES, Lucas Gonçalves Dias et al. Correlation between mechanical and electrical properties of silicon oxide deposited by PECVD-TEOS at low temperature. Surface & Coatings Technology, v. 180-181, p. 275-279, 2004Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0257-8972(03)01212-x. Acesso em: 12 maio 2024. -
APA
Gonçalves, L. G. D., Viana, C. E., Santos, J. C., & Morimoto, N. I. (2004). Correlation between mechanical and electrical properties of silicon oxide deposited by PECVD-TEOS at low temperature. Surface & Coatings Technology,, 180-181, 275-279. doi:10.1016/s0257-8972(03)01212-x -
NLM
Gonçalves LGD, Viana CE, Santos JC, Morimoto NI. Correlation between mechanical and electrical properties of silicon oxide deposited by PECVD-TEOS at low temperature [Internet]. Surface & Coatings Technology,. 2004 ;180-181 275-279.[citado 2024 maio 12 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0257-8972(03)01212-x -
Vancouver
Gonçalves LGD, Viana CE, Santos JC, Morimoto NI. Correlation between mechanical and electrical properties of silicon oxide deposited by PECVD-TEOS at low temperature [Internet]. Surface & Coatings Technology,. 2004 ;180-181 275-279.[citado 2024 maio 12 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0257-8972(03)01212-x - Method to obtain TEOS PECVD silicon oxide thick layers for optoelectronics devices applications. (em CD-Rom)
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Informações sobre o DOI: 10.1016/s0257-8972(03)01212-x (Fonte: oaDOI API)
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