Oxygen plasma etching study for conductor trails (2006)
- Autores:
- Autores USP: HUI, WANG SHU - EP ; ONMORI, ROBERTO KOJI - EP
- Unidade: EP
- Assuntos: PLASMA; POLÍMEROS (MATERIAIS)
- Idioma: Inglês
- Imprenta:
- Editora: Instituto de Pesquisas Energéticas e Nucleares - IPEN
- Local: São Paulo
- Data de publicação: 2006
- ISBN: 9788560238019
- Fonte:
- Título do periódico: Anais. CBECIMAT 2006. São Paulo : IPEN, 2006
- Nome do evento: Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciência dos Materiais
-
ABNT
MOREIRA, Taís Aparecida de Assis Garcia et al. Oxygen plasma etching study for conductor trails. 2006, Anais.. São Paulo: Instituto de Pesquisas Energéticas e Nucleares - IPEN, 2006. . Acesso em: 23 abr. 2024. -
APA
Moreira, T. A. de A. G., Possidonio, S., Wang, S. H., & Onmori, R. K. (2006). Oxygen plasma etching study for conductor trails. In Anais. CBECIMAT 2006. São Paulo : IPEN, 2006. São Paulo: Instituto de Pesquisas Energéticas e Nucleares - IPEN. -
NLM
Moreira TA de AG, Possidonio S, Wang SH, Onmori RK. Oxygen plasma etching study for conductor trails. Anais. CBECIMAT 2006. São Paulo : IPEN, 2006. 2006 ;[citado 2024 abr. 23 ] -
Vancouver
Moreira TA de AG, Possidonio S, Wang SH, Onmori RK. Oxygen plasma etching study for conductor trails. Anais. CBECIMAT 2006. São Paulo : IPEN, 2006. 2006 ;[citado 2024 abr. 23 ] - Semiconducting PPVs with different conjugation lenghts
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