Proposta de uma sequência simples de fabricação de circuitos integrados digitais NMOS com carga em depleção e porta de silício policristalino (1984)
- Authors:
- Autor USP: MARTINO, JOAO ANTONIO - EP
- Unidade: EP
- Sigla do Departamento: PEL
- Subjects: CIRCUITOS INTEGRADOS; FABRICAÇÃO (MICROELETRÔNICA); SILÍCIO
- Language: Português
- Abstract: Apresentamos neste trabalho o projeto, implementação e caracterização de uma sequência simples de fabricação de circuitos integrados digitais NMOS com carga em depleção e porta de Silício policristalino. Inicialmente estudamos a estrutura do Silício policristalino e sua utilização como porta e duto de interconexão. Entre as principais vantagens do Si-poli, temos: a sua fabricação como 3º plano condutor; baixa capacitância por unidade de área com relação a região N; baixa contaminação iônica do óxido pelo seu efeito auto-passivante. Posteriormente projetamos o inversor elementar e os dispositivos básicos na determinação das características de um processo de fabricação, tais como, resistores, capacitores, diodos, transistores e oscilador em anel. Projetamos também um meio somador de mínima possível para testarmos as regras de configuração adotadas. Implementamos e caracterizamos os dispositivos projetados. Analisando seus resultados evoluímos os parâmetros das etapas de processo até termos condições de propormos uma sequência adequada simples para a implementação de circuitos integrados em larga escala. Assim, as principais características da sequência proposta são: - Utiliza apenas 5 máscaras – Número reduzido de etapas em alta temperatura – Baixa densidade de carga efetiva no óxido (<3 X 1010 cm-2) – Baixa densidade de carga iônica no óxido(<2 X 1010 cm-2) – Comprimento de canal de 5µm – Introdução de um terceiro plano condutor (Si-poli) – Sequência simples de fabricação com porta de Si-poli – Tempo de atraso intrínseco ≈ 0,5 ns – Figura de mérito (velocidade X potência) ≈ 0,3pJ. Cujos resultados são reportados pela literatura internacional para esta tecnologia.
- Imprenta:
- Data da defesa: 17.04.1984
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ABNT
MARTINO, João Antonio. Proposta de uma sequência simples de fabricação de circuitos integrados digitais NMOS com carga em depleção e porta de silício policristalino. 1984. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1984. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-23052022-102807/. Acesso em: 19 abr. 2024. -
APA
Martino, J. A. (1984). Proposta de uma sequência simples de fabricação de circuitos integrados digitais NMOS com carga em depleção e porta de silício policristalino (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-23052022-102807/ -
NLM
Martino JA. Proposta de uma sequência simples de fabricação de circuitos integrados digitais NMOS com carga em depleção e porta de silício policristalino [Internet]. 1984 ;[citado 2024 abr. 19 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-23052022-102807/ -
Vancouver
Martino JA. Proposta de uma sequência simples de fabricação de circuitos integrados digitais NMOS com carga em depleção e porta de silício policristalino [Internet]. 1984 ;[citado 2024 abr. 19 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-23052022-102807/ - Temperature influences on the drain leakage current behavior in graded-channel SOI nMOSFETs
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