Peliculas de silicio microcristalino hidrogenado: um estudo de desenvolvimento de sua obtencao por processo cvd assistido por plasma (1991)
- Authors:
- Autor USP: DIRANI, ELY ANTONIO TADEU - EP
- Unidade: EP
- Sigla do Departamento: PEE
- Assunto: ENGENHARIA ELÉTRICA
- Language: Português
- Abstract: Foram estudadas as propriedades eletro-opticas e estruturais de peliculas de silicio microcristalino hidrogenado dopadas com fosforo em funcao dos parametros de deposicao. As peliculas foram depositadas num reator do tipo plasma enhanced chemical vapor deposition. Observou-se que as propriedades do material sao extremamente sensiveis a densidade de potencia de r.F. E a concentracao de hidrogenio na mistura gasosa. As propriedades eletricas, opticas e a estrutura das peliculas foram estudadas atraves da energia de ativacao e condutividade, da energia do hiato optico, difracao raios-x com incidencia de baixo angulo, espectroscopia raman e espectroscopia de infravermelho. O tamanho medio dos cristalitos apresentou-se na faixa entre 70 angstrons e 120 angstrons. Observou-se que a condutividade eletrica das peliculas e diretamente proporcional ao tamanho medio dos cristalitos e tambem depende da concentracao de hidrogenio na mistura gasosa e da densidade de potencia r.F
- Imprenta:
- Data da defesa: 21.11.1991
-
ABNT
DIRANI, Ely Antonio Tadeu. Peliculas de silicio microcristalino hidrogenado: um estudo de desenvolvimento de sua obtencao por processo cvd assistido por plasma. 1991. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1991. . Acesso em: 20 abr. 2024. -
APA
Dirani, E. A. T. (1991). Peliculas de silicio microcristalino hidrogenado: um estudo de desenvolvimento de sua obtencao por processo cvd assistido por plasma (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. -
NLM
Dirani EAT. Peliculas de silicio microcristalino hidrogenado: um estudo de desenvolvimento de sua obtencao por processo cvd assistido por plasma. 1991 ;[citado 2024 abr. 20 ] -
Vancouver
Dirani EAT. Peliculas de silicio microcristalino hidrogenado: um estudo de desenvolvimento de sua obtencao por processo cvd assistido por plasma. 1991 ;[citado 2024 abr. 20 ] - Cabo coberto - avaliacao frente ao trilhamento eletrico
- The role of the species formed in PECVD systems on the density of state of a Si:H films
- Highly conductive N-Type micron s-Si:H films deposited at very low temperature
- Películas de silício microcristalino hidrogenado depositadas a baixa temperatura pela técnica PECVD
- Low operating voltage of an pled structure in ITO/MEH-PPV/AI light emmiting device
- Ensaio de trilhamento na cobertura de cabos e placas de material isolante
- Estudo de diodos emissores de luz poliméricos
- Improved conductivity in n-type microcrystalline silicon
- Estudo do mecanismo de crescimento de SiMc:H em função da espessura das películas e do tipo de substrato
- Cabo coberto: avaliação frente ao trilhamento elétrico II
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas