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Deposição de nitreto de silício por LPCVD (1994)

  • Authors:
  • USP affiliated authors: ZAMBOM, LUÍS DA SILVA - EP
  • USP Schools: EP
  • Sigla do Departamento: PMT
  • Subjects: MATERIAIS
  • Language: Português
  • Abstract: Desenvolveu-se um processo de deposição de nitreto de silício a partir da reação química entre diclorosilana e amônia, em baixa pressão (LPCVD – Low Pressure Chemical Vapor Deposition). Extraiu-se a taxa de crescimento do filme (< 11 'angstrons'/min), desuniformidades axial e radial (ambas < 3%) e a energia de ativação (33 kcal/mol) do processo de deposição. O filme estequiométrico ('Si ind.3''N ind.4') foi obtido a 720°C, com proporção gasosa 16 e a uma pressão de 0,5 torr. Verificou-se que mesmo um filme não estequiométrico funciona como barreira contra oxidação. Os filmes obtidos apresentaram as seguintes características físicas: concentração total de hidrogênio (na forma de ligações 'Si'- H e N - H) ≤ '5.10 pot.21''cm pot.-3', tensão máxima ≤ '5.10 pot.10' dinas/'cm pot.2'. Para espessuras superiores a 2000'angstrons' a tensão interfacial silício/nitreto foi verificada ser alta o suficiente para induzir a formação de discordâncias no substrato e rachaduras no filme, aliviando novamente a tensão. Sob o ponto de vista elétrico, o filme apresentou rigidez dielétrica superior a 8 mv/cm, com elevada carga fixa positiva (1 - '10.10 pot.12''cm pot.-2'). Esta carga, bem como a concentração total de hidrogênio na forma de ligações 'Si'- H e N - H, pode ser substancialmente reduzida via tratamentos térmicos de desinficação posteriores a deposição.
  • Imprenta:
  • Data da defesa: 24.06.1994

  • Exemplares físicos disponíveis nas Bibliotecas da USP
    BibliotecaCód. de barrasNúm. de chamada
    EPMT31800005360FD-1670
    How to cite
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    • ABNT

      ZAMBOM, Luís da Silva; HASENACK, Claus Martin. Deposição de nitreto de silício por LPCVD. 1994.Universidade de São Paulo, São Paulo, 1994.
    • APA

      Zambom, L. da S., & Hasenack, C. M. (1994). Deposição de nitreto de silício por LPCVD. Universidade de São Paulo, São Paulo.
    • NLM

      Zambom L da S, Hasenack CM. Deposição de nitreto de silício por LPCVD. 1994 ;
    • Vancouver

      Zambom L da S, Hasenack CM. Deposição de nitreto de silício por LPCVD. 1994 ;

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