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Preparacao e caracterizacao de peliculas de nitreto de silicio obtidas pela tecnica pecvd: aplicacoes em celulas solares de silicio multicristalino (1994)

  • Authors:
  • USP affiliated authors: SATO, EDUARDO MAKOTO - EP
  • USP Schools: EP
  • Sigla do Departamento: PEE
  • Subjects: ENGENHARIA ELÉTRICA
  • Language: Português
  • Abstract: Estudou-se a influencia que os principais parametros de deposicao exercem nas caracteristicas finais de peliculas de nitreto de silicio obtidas num reator tipo pecvd (plasma enhanced chemical vapor deposition). Os parametros considerados foram a temperatura do substrato durante a deposicao, a concentracao relativa dos gases reagentes (amonia e silana) no interior da camara do reator e a potencia de rf aplicada aos gases para gerar o plasma. Tal estudo teve duas finalidades. 1) a obtencao de uma pelicula com caracteristicas adequadas a funcao de camada anti-refletora em celulas solares de silicio multicristalino para aplicacao terrestre. 2) a passivacao de defeitos do dispositivo, o que deve ocorrer durante a deposicao da camada de nitreto de silicio devido a presenca de hidrogenio no plasma gerado pela decomposicao da silana ('SI''H IND.4') e da amonia ('N''H IND.3'). A analise das peliculas de nitreto foi feita atraves de medidas de elipsometria, de espectroscopia (infravermelho, visivel e parte do ultra-violeta), de espectrometria de retroespalhamento (rbs) e de difracao de raios-x. O reator utilizado e os parametros considerados permitiram um bom controle sobre as caracteristicas das peliculas depositadas. A camada anti-refletora obtida com as condicoes de plasma otimizadas mostrou-se bastante eficiente, reduzindo a reflexao a menos da metade.
  • Imprenta:
  • Data da defesa: 11.10.1994

  • Exemplares físicos disponíveis nas Bibliotecas da USP
    BibliotecaCód. de barrasNúm. de chamada
    IEE30400002733D-EP/USP T.365di
    How to cite
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    • ABNT

      SATO, Eduardo Makoto; PAJANIAN, Maria Aparecida Godoy Soler. Preparacao e caracterizacao de peliculas de nitreto de silicio obtidas pela tecnica pecvd: aplicacoes em celulas solares de silicio multicristalino. 1994.Universidade de São Paulo, São Paulo, 1994.
    • APA

      Sato, E. M., & Pajanian, M. A. G. S. (1994). Preparacao e caracterizacao de peliculas de nitreto de silicio obtidas pela tecnica pecvd: aplicacoes em celulas solares de silicio multicristalino. Universidade de São Paulo, São Paulo.
    • NLM

      Sato EM, Pajanian MAGS. Preparacao e caracterizacao de peliculas de nitreto de silicio obtidas pela tecnica pecvd: aplicacoes em celulas solares de silicio multicristalino. 1994 ;
    • Vancouver

      Sato EM, Pajanian MAGS. Preparacao e caracterizacao de peliculas de nitreto de silicio obtidas pela tecnica pecvd: aplicacoes em celulas solares de silicio multicristalino. 1994 ;

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