Otimização da taxa, uniformidade e seletividade na corrosão a seco de filmes de sio2 em plasmas de cf4 e cf+o2 (1988)
- Authors:
- Autor USP: SEABRA, ANTONIO CARLOS - EP
- Unidade: EP
- Subjects: CORROSÃO; PLASMA (MICROELETRÔNICA)
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Sbmicro/Epusp
- Publisher place: São Paulo
- Date published: 1988
- Source:
- Título do periódico: Anais
- Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica
-
ABNT
SEABRA, Antonio Carlos e BRAZ, I C e RODRIGUES NETO, C. Otimização da taxa, uniformidade e seletividade na corrosão a seco de filmes de sio2 em plasmas de cf4 e cf+o2. 1988, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1988. . Acesso em: 23 abr. 2024. -
APA
Seabra, A. C., Braz, I. C., & Rodrigues Neto, C. (1988). Otimização da taxa, uniformidade e seletividade na corrosão a seco de filmes de sio2 em plasmas de cf4 e cf+o2. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp. -
NLM
Seabra AC, Braz IC, Rodrigues Neto C. Otimização da taxa, uniformidade e seletividade na corrosão a seco de filmes de sio2 em plasmas de cf4 e cf+o2. Anais. 1988 ;[citado 2024 abr. 23 ] -
Vancouver
Seabra AC, Braz IC, Rodrigues Neto C. Otimização da taxa, uniformidade e seletividade na corrosão a seco de filmes de sio2 em plasmas de cf4 e cf+o2. Anais. 1988 ;[citado 2024 abr. 23 ] - Estudo e controle do grau de anisotropia na corrosão a seco de dióxido de silício
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