Liquid junctions for characterization of electronic materials . Ii. Photoreflectance and electroreflectance of n-'SI' (1989)
- Authors:
- Autor USP: FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF
- Unidade: IF
- Assunto: CRISTALOGRAFIA
- Language: Inglês
- Source:
- Título do periódico: Journal of Applied Physics
- Volume/Número/Paginação/Ano: v.66, n.4 , p.1759-64, 1989
-
ABNT
SHEN, W M et al. Liquid junctions for characterization of electronic materials . Ii. Photoreflectance and electroreflectance of n-'SI'. Journal of Applied Physics, v. 66, n. 4 , p. 1759-64, 1989Tradução . . Acesso em: 18 abr. 2024. -
APA
Shen, W. M., Fantini, M. C. de A., Tomkiewicz, M., & Gambino, J. P. (1989). Liquid junctions for characterization of electronic materials . Ii. Photoreflectance and electroreflectance of n-'SI'. Journal of Applied Physics, 66( 4 ), 1759-64. -
NLM
Shen WM, Fantini MC de A, Tomkiewicz M, Gambino JP. Liquid junctions for characterization of electronic materials . Ii. Photoreflectance and electroreflectance of n-'SI'. Journal of Applied Physics. 1989 ;66( 4 ): 1759-64.[citado 2024 abr. 18 ] -
Vancouver
Shen WM, Fantini MC de A, Tomkiewicz M, Gambino JP. Liquid junctions for characterization of electronic materials . Ii. Photoreflectance and electroreflectance of n-'SI'. Journal of Applied Physics. 1989 ;66( 4 ): 1759-64.[citado 2024 abr. 18 ] - Liquid junctions for characterization of electronic materials . Iv. Impendance spectroscopy of reactive ion etched 'SI'
- Propriedades estruturais de filmes eletrocromicos de 'NI''O IND.X'
- Dependencia da tensao mecanica de intercalacao ionica com a estrutura em oxidos de v,'NB' e 'NI'
- Dependencia da tensao mecanica de intercalacao ionica com a estrutura em oxidos de v,'NB' e 'NI'
- Caracterização por difração de raios-x de super-redes de a-'SI': h / a-'GE' : h
- Investigacao sobre a micro-textura de fitas supercondutoras a base de bismuto
- Estudo de corrosao em ligas de 'FE'-'NI' por difracao de raios-x e microscopia optica e eletronica
- Sputtered electrochromic 'NI''O IND.X' thin films: the dependence on the oxygen flux
- Sputtered electrochromic 'NI''O IND.X' thin films: the dependence on the oxygen flux
- Sobre as propriedade estruturais de filmes finos eletrocromicos de oxido de niquel crescidos por rf-sputtering
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas