Levantamento de curva de paschen em plasmas formados por fontes dc utilizando-sediferentes configuracoes de eletrodos (1992)
- Authors:
- Autor USP: MACIEL, HOMERO SANTIAGO - EP
- Unidade: EP
- Assunto: SEMICONDUTORES
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Resumos
- Conference titles: Congresso Brasileiro de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia
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ABNT
BARROS, E. A et al. Levantamento de curva de paschen em plasmas formados por fontes dc utilizando-sediferentes configuracoes de eletrodos. 1992, Anais.. Campinas: Unicamp, 1992. . Acesso em: 18 abr. 2024. -
APA
Barros, E. A., Massi, M., Maciel, H. S., & Sudano, J. P. (1992). Levantamento de curva de paschen em plasmas formados por fontes dc utilizando-sediferentes configuracoes de eletrodos. In Resumos. Campinas: Unicamp. -
NLM
Barros EA, Massi M, Maciel HS, Sudano JP. Levantamento de curva de paschen em plasmas formados por fontes dc utilizando-sediferentes configuracoes de eletrodos. Resumos. 1992 ;[citado 2024 abr. 18 ] -
Vancouver
Barros EA, Massi M, Maciel HS, Sudano JP. Levantamento de curva de paschen em plasmas formados por fontes dc utilizando-sediferentes configuracoes de eletrodos. Resumos. 1992 ;[citado 2024 abr. 18 ] - Estudo da influencia da potencia de rf aplicada ao catodo em filmes finos de titanio e cobalto depositados por sputtering
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