Estudo da influencia do ambiente no processo de silicetacao do titanio realizado em fornos de rtp (1992)
- Authors:
- Autor USP: HASENACK, CLAUS MARTIN - EP
- Unidade: EP
- Assunto: SEMICONDUTORES
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Sbmicro/Epusp
- Publisher place: São Paulo
- Date published: 1992
- Source:
- Título do periódico: Anais
- Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica
-
ABNT
COSTA, Y P V e HASENACK, Claus Martin. Estudo da influencia do ambiente no processo de silicetacao do titanio realizado em fornos de rtp. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 25 abr. 2024. -
APA
Costa, Y. P. V., & Hasenack, C. M. (1992). Estudo da influencia do ambiente no processo de silicetacao do titanio realizado em fornos de rtp. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp. -
NLM
Costa YPV, Hasenack CM. Estudo da influencia do ambiente no processo de silicetacao do titanio realizado em fornos de rtp. Anais. 1992 ;[citado 2024 abr. 25 ] -
Vancouver
Costa YPV, Hasenack CM. Estudo da influencia do ambiente no processo de silicetacao do titanio realizado em fornos de rtp. Anais. 1992 ;[citado 2024 abr. 25 ] - Estudo por microscopia eletronica de transmissao (met) do recozimento de defeitos residuais em camadas de silicio recristalizadas
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