Condicoes de deposicao para filmes finos em 'CR' (1992)
- Authors:
- USP affiliated authors: MISSELL, FRANK PATRICK - IF ; JOSE AUGUSTO DE ALENCAR MENDES PEREIRA - EP
- Unidades: IF; EP
- Assunto: SEMICONDUTORES
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Cbecimat: Anais
- Conference titles: Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciencia dos Materiais
-
ABNT
WATANABE, M M et al. Condicoes de deposicao para filmes finos em 'CR'. 1992, Anais.. Campinas: Unicamp, 1992. . Acesso em: 24 abr. 2024. -
APA
Watanabe, M. M., Oppenheim, J., Missell, F. P., Schreiner, W., Bauemvol, J. R., & Pereira, J. A. A. M. (1992). Condicoes de deposicao para filmes finos em 'CR'. In Cbecimat: Anais. Campinas: Unicamp. -
NLM
Watanabe MM, Oppenheim J, Missell FP, Schreiner W, Bauemvol JR, Pereira JAAM. Condicoes de deposicao para filmes finos em 'CR'. Cbecimat: Anais. 1992 ;[citado 2024 abr. 24 ] -
Vancouver
Watanabe MM, Oppenheim J, Missell FP, Schreiner W, Bauemvol JR, Pereira JAAM. Condicoes de deposicao para filmes finos em 'CR'. Cbecimat: Anais. 1992 ;[citado 2024 abr. 24 ] - Desenvolvimento de uma estrutura de duplo nível de metal para a confecção de interconexões em circuitos integrados
- Construção e caracterização de um fotodiodo de silício
- Comportamento da magnetizacao em recoil curves em imas de 'SM'c'O IND.5'
- Tecnologia CMOS /NMOS de 3'MI'm ; aspectos de projeto e primeiros resultados
- Estudo do comportamento magneto-óptico de uma rede de difração magnética
- Estudo do comportamento magneto-optico de uma rede de difracao magnetica
- Estudo do comportamento magneto-optico de uma rede de difracao magnetica
- Determinacao de parametros de processo para fotomascara 'BALZERS'
- Tecnologia cmos / nmos de 3 micra: aprimoramento do processo de fabricacao
- Medidas de magnetostriccao de saturacao em ligas amorfas ferromagneticas
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
