Effect of plasma etching, carbon concentration, and buffer layer on the properties of a-'SI': h / a-'SI IND.1-X''C IND.X' : h multilayers (1994)
- Authors:
- USP affiliated authors: PEREYRA, INÊS - EP ; CARRENO, MARCELO NELSON PAEZ - EP ; FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF
- Unidades: EP; IF
- Assunto: MATÉRIA CONDENSADA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Journal of Applied Physics
- Volume/Número/Paginação/Ano: v.75, n.1 , p.543-8, jan. 1994
-
ABNT
VELASQUEZ, E L Z et al. Effect of plasma etching, carbon concentration, and buffer layer on the properties of a-'SI': h / a-'SI IND.1-X''C IND.X' : h multilayers. Journal of Applied Physics, v. 75, n. ja 1994, p. 543-8, 1994Tradução . . Acesso em: 12 maio 2024. -
APA
Velasquez, E. L. Z., Fantini, M. C. de A., Páez Carreño, M. N., Pereyra, I., Takahashi, H., & Landers, R. (1994). Effect of plasma etching, carbon concentration, and buffer layer on the properties of a-'SI': h / a-'SI IND.1-X''C IND.X' : h multilayers. Journal of Applied Physics, 75( ja 1994), 543-8. -
NLM
Velasquez ELZ, Fantini MC de A, Páez Carreño MN, Pereyra I, Takahashi H, Landers R. Effect of plasma etching, carbon concentration, and buffer layer on the properties of a-'SI': h / a-'SI IND.1-X''C IND.X' : h multilayers. Journal of Applied Physics. 1994 ;75( ja 1994): 543-8.[citado 2024 maio 12 ] -
Vancouver
Velasquez ELZ, Fantini MC de A, Páez Carreño MN, Pereyra I, Takahashi H, Landers R. Effect of plasma etching, carbon concentration, and buffer layer on the properties of a-'SI': h / a-'SI IND.1-X''C IND.X' : h multilayers. Journal of Applied Physics. 1994 ;75( ja 1994): 543-8.[citado 2024 maio 12 ] - Microporos em a- 'SI ANTPOT.1-X' 'C ANTPOT.X': h do tipo diamante
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