Formação do siliceto de titânio pela deposição de uma dupla camada de 'SI'-a / 'TI' visando a utilização em linhas de interconexão local (1994)
- Authors:
- USP affiliated authors: FURLAN, ROGERIO - EP ; SILVA, ANA NEILDE RODRIGUES DA - EP
- Unidade: EP
- Assunto: SEMICONDUTORES
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: IFUSP/EPUSP/IPT
- Publisher place: São Paulo
- Date published: 1994
- Source:
- Título do periódico: Cbecimat: Anais
- Conference titles: Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciência dos Materiais
-
ABNT
SILVA, Ana Neilde Rodrigues da e FURLAN, Rogério. Formação do siliceto de titânio pela deposição de uma dupla camada de 'SI'-a / 'TI' visando a utilização em linhas de interconexão local. 1994, Anais.. São Paulo: IFUSP/EPUSP/IPT, 1994. . Acesso em: 24 abr. 2024. -
APA
Silva, A. N. R. da, & Furlan, R. (1994). Formação do siliceto de titânio pela deposição de uma dupla camada de 'SI'-a / 'TI' visando a utilização em linhas de interconexão local. In Cbecimat: Anais. São Paulo: IFUSP/EPUSP/IPT. -
NLM
Silva ANR da, Furlan R. Formação do siliceto de titânio pela deposição de uma dupla camada de 'SI'-a / 'TI' visando a utilização em linhas de interconexão local. Cbecimat: Anais. 1994 ;[citado 2024 abr. 24 ] -
Vancouver
Silva ANR da, Furlan R. Formação do siliceto de titânio pela deposição de uma dupla camada de 'SI'-a / 'TI' visando a utilização em linhas de interconexão local. Cbecimat: Anais. 1994 ;[citado 2024 abr. 24 ] - Influência do substrato de silicio policristalino na formação do siliceto de titânio
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