Controlling atomic beams with radiation pressure: morphology for film deposition (1995)
- Authors:
- USP affiliated authors: ZILIO, SERGIO CARLOS - IFSC ; BAGNATO, VANDERLEI SALVADOR - IFSC
- Unidade: IFSC
- Assunto: FÍSICA MODERNA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher: Aciesp/Sbpn
- Publisher place: São Paulo
- Date published: 1995
- Source:
- Título do periódico: Informatica e Telecomunicacoes: Anais
- Conference titles: Simposio Nipo-Brasileiro de Ciencia e Tecnologia
-
ABNT
BAGNATO, Vanderlei Salvador et al. Controlling atomic beams with radiation pressure: morphology for film deposition. 1995, Anais.. São Paulo: Aciesp/Sbpn, 1995. . Acesso em: 20 abr. 2024. -
APA
Bagnato, V. S., Guedes, N., Muniz, S. R., & Zílio, S. C. (1995). Controlling atomic beams with radiation pressure: morphology for film deposition. In Informatica e Telecomunicacoes: Anais. São Paulo: Aciesp/Sbpn. -
NLM
Bagnato VS, Guedes N, Muniz SR, Zílio SC. Controlling atomic beams with radiation pressure: morphology for film deposition. Informatica e Telecomunicacoes: Anais. 1995 ;[citado 2024 abr. 20 ] -
Vancouver
Bagnato VS, Guedes N, Muniz SR, Zílio SC. Controlling atomic beams with radiation pressure: morphology for film deposition. Informatica e Telecomunicacoes: Anais. 1995 ;[citado 2024 abr. 20 ] - Simulacao numerica do processo de desaceleracao de feixes atomicos
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