Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system (1996)
- Authors:
- Autor USP: ZASNICOFF, LUIZ SERGIO - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
-
ABNT
OSORIO, Sergio Paulo Amaral e ZASNICOFF, Luiz Sergio. Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system. . Sao Paulo: Epusp. . Acesso em: 23 abr. 2024. , 1996 -
APA
Osorio, S. P. A., & Zasnicoff, L. S. (1996). Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system. Sao Paulo: Epusp. -
NLM
Osorio SPA, Zasnicoff LS. Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system. 1996 ;[citado 2024 abr. 23 ] -
Vancouver
Osorio SPA, Zasnicoff LS. Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system. 1996 ;[citado 2024 abr. 23 ] - Projeto e construção de retificadores controlados de silício utilizando a técnica de tripla difusão
- Estudo da deposicao de filmes de sog (spin-on-glass)
- Lattice heating and energy balance consideration on the i-v characteristics of submicrometer thin-film fully depleted soi nmos devices
- Desenvolvimento de um processo NMOS de alto desempenho: análise, caracterização e extração de parâmetros elétricos e tecnológicos
- Processos mos
- Experimental study of preoxidation cleaning effects on the oxide growth rate
- Reactively-sputtered tin formation using fr magnetron system
- Tecnologia CMOS/NMOS de 3 micra: concepção do processo de fabricação
- Processo nmos de alto desempenho eletrico: caracterizacao dos principais parametros
- Dependencia da tensao de limiar de transistores tipo deplecao com canal n implantado, na reducao da geometria do dispositivo
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
