Properties of 'ZR'-n thin films prepared by the ion and vapour deposition method (1996)
- Authors:
- Autor USP: MATSUOKA, MASAO - IF
- Unidade: IF
- DOI: 10.1007/bf00240801
- Assunto: MATÉRIA CONDENSADA
- Language: Inglês
- Imprenta:
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- Título do periódico: Journal of Materials Science Letters
- Volume/Número/Paginação/Ano: v.15, p.1340-2, 1996
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
MATSUOKA, Masao e KURATANI, N e OGATA, K. Properties of 'ZR'-n thin films prepared by the ion and vapour deposition method. Journal of Materials Science Letters, v. 15, p. 1340-2, 1996Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1007/bf00240801. Acesso em: 19 abr. 2024. -
APA
Matsuoka, M., Kuratani, N., & Ogata, K. (1996). Properties of 'ZR'-n thin films prepared by the ion and vapour deposition method. Journal of Materials Science Letters, 15, 1340-2. doi:10.1007/bf00240801 -
NLM
Matsuoka M, Kuratani N, Ogata K. Properties of 'ZR'-n thin films prepared by the ion and vapour deposition method [Internet]. Journal of Materials Science Letters. 1996 ;15 1340-2.[citado 2024 abr. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1007/bf00240801 -
Vancouver
Matsuoka M, Kuratani N, Ogata K. Properties of 'ZR'-n thin films prepared by the ion and vapour deposition method [Internet]. Journal of Materials Science Letters. 1996 ;15 1340-2.[citado 2024 abr. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1007/bf00240801 - Growth, microestructure and strain relaxation in low-temperature epitaxial 'SI IND.1-X' 'GE IND.X' alloys deposited on 'SI' (001) from hyperthermal beams
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Informações sobre o DOI: 10.1007/bf00240801 (Fonte: oaDOI API)
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