Distribution of pores in a-Si1-xCx:H thin films (1997)
- Authors:
- USP affiliated authors: BITTENCOURT, DIOMAR DA ROCHA SANTOS - IF ; FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF ; TABACNIKS, MANFREDO HARRI - IF ; ALVAREZ, INES PEREYRA DE - EP ; CARRENO, MARCELO NELSON PAEZ - EP
- Unidades: IF; EP
- DOI: 10.1107/S0021889897001349
- Assunto: FISICA APLICADA
- Language: Inglês
- Source:
- Título do periódico: Journal of Applied Crystallography
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 30, n. 5, p. 659-663, 1997
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
PRADO, Rogerio Junqueira et al. Distribution of pores in a-Si1-xCx:H thin films. Journal of Applied Crystallography, v. 30, n. 5, p. 659-663, 1997Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1107/S0021889897001349. Acesso em: 26 abr. 2024. -
APA
Prado, R. J., Bittencourt, D. da R. S., Tabacniks, M. H., Fantini, M. C. de A., Paez Carreño, M. N., & Pereyra, I. (1997). Distribution of pores in a-Si1-xCx:H thin films. Journal of Applied Crystallography, 30( 5), 659-663. doi:10.1107/S0021889897001349 -
NLM
Prado RJ, Bittencourt D da RS, Tabacniks MH, Fantini MC de A, Paez Carreño MN, Pereyra I. Distribution of pores in a-Si1-xCx:H thin films [Internet]. Journal of Applied Crystallography. 1997 ; 30( 5): 659-663.[citado 2024 abr. 26 ] Available from: https://doi.org/10.1107/S0021889897001349 -
Vancouver
Prado RJ, Bittencourt D da RS, Tabacniks MH, Fantini MC de A, Paez Carreño MN, Pereyra I. Distribution of pores in a-Si1-xCx:H thin films [Internet]. Journal of Applied Crystallography. 1997 ; 30( 5): 659-663.[citado 2024 abr. 26 ] Available from: https://doi.org/10.1107/S0021889897001349 - On the structural properties of a-'SI IND.1-X' 'c ind.X: h' thin films
- On the structural properties of a-'SI IND.1-X''c ind.X: h thin films
- Distribuicao de poros em 'A-SI IND.1-X''c ind.X: h' obtido por pecvd
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Informações sobre o DOI: 10.1107/S0021889897001349 (Fonte: oaDOI API)
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