Estudo do comportamento eletroquímico do crômio metálico em soluções contendo íons cloreto. Parte II: pH 3 e pH 4 (1999)
- Authors:
- Autor USP: SUMODJO, PAULO TENG AN - IQ
- Unidade: IQ
- Subjects: FÍSICO-QUÍMICA; ELETROQUÍMICA
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: CCEN/UFAL
- Publisher place: Tabuleiro dos Martins
- Date published: 1999
- Source:
- Título do periódico: Anais
- Conference titles: Simpósio Brasileiro de Eletroquímica e Eletroanalítica
-
ABNT
SILVA, Gilmar Clemente e SUMODJO, Paulo Teng An e BENEDETTI, Assis Vicente. Estudo do comportamento eletroquímico do crômio metálico em soluções contendo íons cloreto. Parte II: pH 3 e pH 4. 1999, Anais.. Tabuleiro dos Martins: CCEN/UFAL, 1999. . Acesso em: 24 abr. 2024. -
APA
Silva, G. C., Sumodjo, P. T. A., & Benedetti, A. V. (1999). Estudo do comportamento eletroquímico do crômio metálico em soluções contendo íons cloreto. Parte II: pH 3 e pH 4. In Anais. Tabuleiro dos Martins: CCEN/UFAL. -
NLM
Silva GC, Sumodjo PTA, Benedetti AV. Estudo do comportamento eletroquímico do crômio metálico em soluções contendo íons cloreto. Parte II: pH 3 e pH 4. Anais. 1999 ;[citado 2024 abr. 24 ] -
Vancouver
Silva GC, Sumodjo PTA, Benedetti AV. Estudo do comportamento eletroquímico do crômio metálico em soluções contendo íons cloreto. Parte II: pH 3 e pH 4. Anais. 1999 ;[citado 2024 abr. 24 ] - Studies of electrodeposition kinetics of Co-Fe films on platinum
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