Low temperature PECVD deposited amorphous and microcrystalline silicon films (1999)
- Authors:
- USP affiliated authors: DIRANI, ELY ANTONIO TADEU - EP ; ANDRADE, ADNEI MELGES DE - EP ; FONSECA, FERNANDO JOSEPETTI - EP
- Unidade: EP
- Assunto: DISPOSITIVOS ELETRÔNICOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: ICMP 99 : technical digest
- Conference titles: International Conference on Microelectronics and Packaging
-
ABNT
DIRANI, Ely Antonio Tadeu e ANDRADE, Adnei Melges de e FONSECA, Fernando Josepetti. Low temperature PECVD deposited amorphous and microcrystalline silicon films. 1999, Anais.. São Paulo: SBMicro, 1999. . Acesso em: 05 maio 2024. -
APA
Dirani, E. A. T., Andrade, A. M. de, & Fonseca, F. J. (1999). Low temperature PECVD deposited amorphous and microcrystalline silicon films. In ICMP 99 : technical digest. São Paulo: SBMicro. -
NLM
Dirani EAT, Andrade AM de, Fonseca FJ. Low temperature PECVD deposited amorphous and microcrystalline silicon films. ICMP 99 : technical digest. 1999 ;[citado 2024 maio 05 ] -
Vancouver
Dirani EAT, Andrade AM de, Fonseca FJ. Low temperature PECVD deposited amorphous and microcrystalline silicon films. ICMP 99 : technical digest. 1999 ;[citado 2024 maio 05 ] - Low operating voltage of an ITO/MEH-PPV/AI light emmiting device
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