Desenvolvimento e caracterização de uma fonte de plasma ECR para deposição de filmes finos (2001)
- Authors:
- Autor USP: MATTA, JOSÉ ANTONIO SEVIDANES DA - IF
- Unidade: IF
- Sigla do Departamento: FAP
- Subjects: FÍSICA; FÍSICA DE PLASMAS; FILMES FINOS
- Language: Português
- Abstract: Neste trabalho são apresentados o projeto, construção, caracterização e utilização de um dispositivo de produção de plasmas por absorção de ondas eletromagnéticas, na freqüência ciclotrônica dos elétrons - ECR ("electron-cyclotron resonance"). Os fundamentos teóricos dos processos físicos relevantes, tanto com relação a absorção das ondas eletromagnéticas como quanto ao diagnóstico do plasma, são discutidos de forma a permitir uma apresentação completa do tema. A construção e autilização do dispositivo, para crescimento de filmes semicondutores de interesse sobre substratos de silício, são descritos em detalhe. No caso de filmes de nitreto de boro cúbico, as experiências não tiveram exito devido a impossibilidade de conseguir a fonte de boro previsto no projeto, decaborana. Já no caso de nitreto de alumínio hexagonal, foi possível demonstrar, pela primeira vez diretamente em dispositivos ECR, o crescimento de grãos policristalinos. A configuração magnética e os parâmetros de plasma apropriados para crescimento de nitreto de alumínio foram devidamente determinados
- Imprenta:
- Data da defesa: 01.02.2001
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ABNT
MATTA, Jose Antonio Sevidanes da. Desenvolvimento e caracterização de uma fonte de plasma ECR para deposição de filmes finos. 2001. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2001. . Acesso em: 16 abr. 2024. -
APA
Matta, J. A. S. da. (2001). Desenvolvimento e caracterização de uma fonte de plasma ECR para deposição de filmes finos (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. -
NLM
Matta JAS da. Desenvolvimento e caracterização de uma fonte de plasma ECR para deposição de filmes finos. 2001 ;[citado 2024 abr. 16 ] -
Vancouver
Matta JAS da. Desenvolvimento e caracterização de uma fonte de plasma ECR para deposição de filmes finos. 2001 ;[citado 2024 abr. 16 ]
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