Caracterização química e morfológica de filmes Si'O IND.X' 'N IND.Y':H (2000)
- Authors:
- USP affiliated authors: FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF ; ALVAREZ, INES PEREYRA DE - EP
- Unidades: IF; EP
- Subjects: ÓPTICA; MICROELETRÔNICA
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Resumos de Trabalhos
- Conference titles: Reunião Anual de Usuários do Laboratório Nacional de Luz Síncrotron-LNLS
-
ABNT
SCOPEL, Wanderla Luis et al. Caracterização química e morfológica de filmes Si'O IND.X' 'N IND.Y':H. 2000, Anais.. Campinas: LNLS, 2000. . Acesso em: 23 abr. 2024. -
APA
Scopel, W. L., Fantini, M. C. de A., Alayo Chávez, M. I., & Pereyra, I. (2000). Caracterização química e morfológica de filmes Si'O IND.X' 'N IND.Y':H. In Resumos de Trabalhos. Campinas: LNLS. -
NLM
Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Caracterização química e morfológica de filmes Si'O IND.X' 'N IND.Y':H. Resumos de Trabalhos. 2000 ;[citado 2024 abr. 23 ] -
Vancouver
Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Caracterização química e morfológica de filmes Si'O IND.X' 'N IND.Y':H. Resumos de Trabalhos. 2000 ;[citado 2024 abr. 23 ] - On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) SiOxNy films
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