Structural and transport properties of 'NdNiO IND.3' thin films made by RF sputtering (2001)
- Authors:
- Autor USP: JARDIM, RENATO DE FIGUEIREDO - IF
- Unidade: IF
- DOI: 10.1016/s0304-8853(00)00647-8
- Subjects: FILMES FINOS; MATERIAIS MAGNÉTICOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Journal of Magnetism and Magnetic Materials
- ISSN: 0304-8853
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 226, p. 249-251, 2001
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
ESCOTE, M T e JARDIM, R. F. Structural and transport properties of 'NdNiO IND.3' thin films made by RF sputtering. Journal of Magnetism and Magnetic Materials, v. 226, p. 249-251, 2001Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0304-8853(00)00647-8. Acesso em: 24 abr. 2024. -
APA
Escote, M. T., & Jardim, R. F. (2001). Structural and transport properties of 'NdNiO IND.3' thin films made by RF sputtering. Journal of Magnetism and Magnetic Materials, 226, 249-251. doi:10.1016/s0304-8853(00)00647-8 -
NLM
Escote MT, Jardim RF. Structural and transport properties of 'NdNiO IND.3' thin films made by RF sputtering [Internet]. Journal of Magnetism and Magnetic Materials. 2001 ; 226 249-251.[citado 2024 abr. 24 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0304-8853(00)00647-8 -
Vancouver
Escote MT, Jardim RF. Structural and transport properties of 'NdNiO IND.3' thin films made by RF sputtering [Internet]. Journal of Magnetism and Magnetic Materials. 2001 ; 226 249-251.[citado 2024 abr. 24 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0304-8853(00)00647-8 - Phonon meam free path evaluation in high tc oxides
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Informações sobre o DOI: 10.1016/s0304-8853(00)00647-8 (Fonte: oaDOI API)
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