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Estudo da pureza de filmes depositados por "Vacuum Arc Plasma Deposition System" (2002)

  • Authors:
  • USP affiliated authors: MARTINS, DEILTON REIS - EP
  • USP Schools: EP
  • Sigla do Departamento: PSI
  • Subjects: FILMES FINOS; PLASMA (MICROELETRÔNICA)
  • Language: Português
  • Abstract: Neste trabalho obtemos filmes finos a partir de plasma gerado por corrente elétrica. Este processo, conhecido por arco catódico filtrado, é usado em um grande número de aplicações tecnológicas, seja para recobrimento ou modificação de superfícies. Apresentamos, além da descrição de características básicas do método, detalhes da construção do equipamento tal como o circuito elétrico para geração do arco catódico. Após a construção do equipamento, foi dado inicio a um estudo de contaminação do filme em função de outros elementos anteriormente utilizados na câmara de deposição, isto é, um estudo da contaminação por efeito de memória. Ainda como parte do estudo do efeito de memória, é abordada a questão da persistência desse efeito ao longo do tempo de deposição. Resultados de contaminação de oxigênio em um filme de alumínio são apresentados no final do trabalho
  • Imprenta:
  • Data da defesa: 10.06.2002

  • Exemplares físicos disponíveis nas Bibliotecas da USP
    BibliotecaCód. de barrasNúm. de chamada
    EPEL31500011443FD-3122
    How to cite
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    • ABNT

      MARTINS, Deilton Reis; SALVADORI, Maria Cecília Barbosa da Silveira. Estudo da pureza de filmes depositados por "Vacuum Arc Plasma Deposition System". 2002.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2002.
    • APA

      Martins, D. R., & Salvadori, M. C. B. da S. (2002). Estudo da pureza de filmes depositados por "Vacuum Arc Plasma Deposition System". Universidade de São Paulo, São Paulo.
    • NLM

      Martins DR, Salvadori MCB da S. Estudo da pureza de filmes depositados por "Vacuum Arc Plasma Deposition System". 2002 ;
    • Vancouver

      Martins DR, Salvadori MCB da S. Estudo da pureza de filmes depositados por "Vacuum Arc Plasma Deposition System". 2002 ;

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