Formation of nickel monosilicide onto (100) silicon wafer surfaces (2002)
- Authors:
- USP affiliated authors: SANTOS FILHO, SEBASTIAO GOMES DOS - EP ; LAGANA, ARMANDO ANTONIO MARIA - EP ; SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP
- Unidade: EP
- Assunto: MICROELETRÔNICA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher: The Electrochemical Society
- Publisher place: Pennington
- Date published: 2002
- ISBN: 1-56677-328-8
- Source:
- Título do periódico: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002
-
ABNT
REIS, Ronaldo Willian et al. Formation of nickel monosilicide onto (100) silicon wafer surfaces. Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Tradução . Pennington: The Electrochemical Society, 2002. . . Acesso em: 25 abr. 2024. -
APA
Reis, R. W., Santos Filho, S. G. dos, Laganá, A. A. M., Doi, I., & Swart, J. W. (2002). Formation of nickel monosilicide onto (100) silicon wafer surfaces. In Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society. -
NLM
Reis RW, Santos Filho SG dos, Laganá AAM, Doi I, Swart JW. Formation of nickel monosilicide onto (100) silicon wafer surfaces. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002. [citado 2024 abr. 25 ] -
Vancouver
Reis RW, Santos Filho SG dos, Laganá AAM, Doi I, Swart JW. Formation of nickel monosilicide onto (100) silicon wafer surfaces. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002. [citado 2024 abr. 25 ] - Formação do siliceto de titânio em duas etapas em ambiente de nitrogênio
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