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Caracterização nanoestrutural de filmes finos do grupo IV-B depositados por sputtering magnetron (2002)

  • Authors:
  • USP affiliated authors: CHINAGLIA, ELIANE DE FATIMA - IF
  • USP Schools: IF
  • Sigla do Departamento: FMT
  • Subjects: FILMES FINOS; MATÉRIA CONDENSADA
  • Language: Português
  • Imprenta:
  • Data da defesa: 11.11.2002

  • Exemplares físicos disponíveis nas Bibliotecas da USP
    BibliotecaCód. de barrasNúm. de chamada
    IF30500037588530.417 C539c D Ex.2
    How to cite
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    • ABNT

      CHINAGLIA, Eliane F.; OPPENHEIM, Ivette Frida Cymbaum. Caracterização nanoestrutural de filmes finos do grupo IV-B depositados por sputtering magnetron. 2002.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2002.
    • APA

      Chinaglia, E. F., & Oppenheim, I. F. C. (2002). Caracterização nanoestrutural de filmes finos do grupo IV-B depositados por sputtering magnetron. Universidade de São Paulo, São Paulo.
    • NLM

      Chinaglia EF, Oppenheim IFC. Caracterização nanoestrutural de filmes finos do grupo IV-B depositados por sputtering magnetron. 2002 ;
    • Vancouver

      Chinaglia EF, Oppenheim IFC. Caracterização nanoestrutural de filmes finos do grupo IV-B depositados por sputtering magnetron. 2002 ;

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