Influência da energia utilizada na fotoativação de resinas compostas na dureza superficial e no número relativo de radicais livres (2002)
- Authors:
- Autor USP: CARVALHO, MARIA CARMEN FONSECA SERPA - FOB
- Unidade: FOB
- Sigla do Departamento: BAD
- Subjects: ENERGIA; RESINAS COMPOSTAS; RADICAIS LIVRES
- Language: Português
- Abstract: No presente trabalho objetivou-se avaliar a influência da energia luminosa utilizada na fotoativação de resinas compostas na dureza superficial e no número relativo de radicais livres remanescentes, por meio de testes de dureza Knoop e Espectrometria de Ressonância Paramagnética Eletrônica (RPE). As resinas avaliadas, dois materiais fabricados pela 3M do Brasil (Z100 e Filtek Z250), foram fotoativadas com um aparelho Degulux (Degussa, Alemanha) utilizando-se três combinações entre intensidade de luz e tempos de ativação, tomando-se como base a potência fornecida pelo aparelho e o tempo de fotoativação recomendado pelo fabricante das resinas. As formas de fotoativação foram: 1) 600 mW/cm2 (Z100 durante 40 segundos, e Z250 por 20 segundos), 2) 300 mW/cm2 (Z100 durante 80 segundos, e Z250 por 40 segundos) e 3) 300 mW/cm2 durante 20 segundos + 600 mW/cm2 com 30 segundos para a Z100, e para a Z250, 10 segundos. Para cada ensaio de dureza foram preparadas 5 amostras, com 5 mm de diâmetro e 2 mm de espessura. As leituras foram realizadas nas idades de 1 hora, 1 dia, 1 semana e 1 mês nas superfícies de topo e base. Nos intervalos de tempo, as amostras foram armazenadas tanto em ambiente seco como em água deionizada em estufa a 37ºC. Para os ensaios de RPE, foram confeccionadas 3 amostras, para cada condição, sendo que o armazenamento, em função dos requisitos de leitura do equipamento, foi a seco. Os resultados foram analisados estatisticamente, permitindoconcluir que: 1) para os grupos armazenados em ambiente seco, de ambos os materiais avaliados, os valores de dureza foram maiores na superfície de topo que na base; 2) para os grupos onde os espécimes tiveram a superfície de topo armazenada em contato com umidade, os valores de dureza nessa superfície foram menores que na de base, devido ao fenômeno de sorção de água, característica intrínseca do material resinoso; 3) independentemente da técnica de fotoativação, ) os valores de dureza aumentam em função do tempo decorrido após a fotoativação; 4) em todas as condições examinadas, a resina composta Z100, apresentou sempre média de valores de dureza maiores. No que diz respeito ao estudo dos radicais livres remanescentes, pode-se constatar que: 1) os resultados dos ensaios mostraram valores com diferenças estatisticamente não significantes entre ambos os materiais e técnicas de fotoativação; 2) foi visível o decaimento do número relativo de radicais livres nos dois materiais em função do tempo. Pode-se inferir que apesar dos materiais estudados apresentarem diferenças nos resultados em razão das diferenças de composição entre eles, houve uma correlação inversa entre a evolução da dureza superficial e o número relativo de radicais livres remanescentes, uma vez que, enquanto a dureza tende a aumentar em função do envelhecimento no intervalo de tempo avaliado, inversamente, a quantidade de radicais livres remanescentes sofre uma queda do seu número
- Imprenta:
- Data da defesa: 25.11.2002
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ABNT
CARVALHO, Maria Carmen Fonseca Serpa. Influência da energia utilizada na fotoativação de resinas compostas na dureza superficial e no número relativo de radicais livres. 2002. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, Bauru, 2002. . Acesso em: 16 abr. 2024. -
APA
Carvalho, M. C. F. S. (2002). Influência da energia utilizada na fotoativação de resinas compostas na dureza superficial e no número relativo de radicais livres (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, Bauru. -
NLM
Carvalho MCFS. Influência da energia utilizada na fotoativação de resinas compostas na dureza superficial e no número relativo de radicais livres. 2002 ;[citado 2024 abr. 16 ] -
Vancouver
Carvalho MCFS. Influência da energia utilizada na fotoativação de resinas compostas na dureza superficial e no número relativo de radicais livres. 2002 ;[citado 2024 abr. 16 ]
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