Description and characterization of a ECR plasma device developed for thin film deposition (2003)
- Authors:
- USP affiliated authors: GALVAO, RICARDO MAGNUS OSORIO - IF ; FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF ; KIYOHARA, PEDRO KUNIHIKO - IF
- Unidade: IF
- DOI: 10.1590/s0103-97332003000100011
- Assunto: FILMES FINOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Brazilian Journal of Physics
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 33, n. 1, p. 123-127, 2003
- Este periódico é de acesso aberto
- Este artigo é de acesso aberto
- URL de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: gold
- Licença: cc-by-nc
-
ABNT
MATTA, J A S da et al. Description and characterization of a ECR plasma device developed for thin film deposition. Brazilian Journal of Physics, v. 33, n. 1, p. 123-127, 2003Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1590/s0103-97332003000100011. Acesso em: 20 abr. 2024. -
APA
Matta, J. A. S. da, Galvao, R. M. O., Ruchko, L., Fantini, M. C. de A., & Kiyohara, P. K. (2003). Description and characterization of a ECR plasma device developed for thin film deposition. Brazilian Journal of Physics, 33( 1), 123-127. doi:10.1590/s0103-97332003000100011 -
NLM
Matta JAS da, Galvao RMO, Ruchko L, Fantini MC de A, Kiyohara PK. Description and characterization of a ECR plasma device developed for thin film deposition [Internet]. Brazilian Journal of Physics. 2003 ; 33( 1): 123-127.[citado 2024 abr. 20 ] Available from: https://doi.org/10.1590/s0103-97332003000100011 -
Vancouver
Matta JAS da, Galvao RMO, Ruchko L, Fantini MC de A, Kiyohara PK. Description and characterization of a ECR plasma device developed for thin film deposition [Internet]. Brazilian Journal of Physics. 2003 ; 33( 1): 123-127.[citado 2024 abr. 20 ] Available from: https://doi.org/10.1590/s0103-97332003000100011 - Plasma cleaning and analysis of archeological artefacts from Spain
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Informações sobre o DOI: 10.1590/s0103-97332003000100011 (Fonte: oaDOI API)
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